裴立宅
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唐元洪
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郭池
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张勇
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陈扬文
人工晶体学报
doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2006.01.008
硅纳米线与硅纳米管是两种重要的一维硅纳米材料,由于具有量子限制效应等性能在光电子器件方面具有潜在的应用前景.总结了近年来硅纳米线在光学特性方面的研究进展,重点介绍了本征硅纳米线、掺杂硅纳米线及硅纳米线阵列的光致发光光谱(PL)的最新进展情况,同时涉及了硅纳米管在PL发射光谱方面的研究结果.并对其发展作了展望
关键词:
硅纳米线
,
硅纳米管
,
光学特性
,
光致发光特性
石锋
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李玉国
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孙钦军
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2009.00234
采用射频磁控共溅射法在硅衬底上沉积Cu/SiO2 复合薄膜,然后在N2保护下高温退火,再于空气中自然冷却氧化,制备出低维CuO纳米结构,并对其微观结构和光致发光进行研究.退火温度为1100℃时样品中主晶相为立方晶系的CuO(200)晶面,薄膜样品表面出现纳米线状结构,表面组分主要包括Cu、O元素,冷却氧化形成CuO/SiO2复合薄膜.该温度下退火后,光致发光谱中出现紫外光和紫光,这是由于复合薄膜中CuO的导带底到Cu空穴缺陷能级的跃迁导致的.
关键词:
射频磁控共溅射法
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CuO/SiO2复合薄膜
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微观结构
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光致发光特性
孟阿兰
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汪传生
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蔺玉胜
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侯俊英
,
李镇江
稀有金属材料与工程
报道了1种新形态的GaN低维纳米材料--镊子状纳米GaN的合成及其新颖的光致发光特性.首先,对单晶MgO基片表面进行化学刻蚀,使其表面形成规则的小山峰样突起结构.随后,通过金属镓与氨气反应,在经上述特殊处理后的立方MgO单晶基片上,首次成功地合成出镊子状纳米GaN.场发射扫描电镜、能量损失谱、X-Ray衍射、透射电镜及选区电子衍射结果表明:镊子状纳米GaN是由底部的1根直径大约为100 nm～150 nm的纳米棒和上部的2根直径大约为40 nm～70nm的纳米针组成;纳米镊子是具有立方闪锌矿结构的GaN单晶.光致发光谱研究表明,镊子状纳米GaN在450nm左右有1个宽的强发光峰,该发光峰处于蓝带发光区.此外,在418 nm,450 nm及469 nm处各有1个劈裂峰.
关键词:
镊子状纳米GaN
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合成
,
光致发光特性
