材料期刊网

高支化碱溶性感光聚酯的光成像性能

冯宗财 , 李琳 , 郭祀远 , 王跃川 , 赵凌 , 陈毅敏

功能材料

研究了高支化碱溶性感光聚合物的碱溶性、感光性及其光致抗蚀剂的成像显影性能.研究发现高支化碱溶性感光聚合物酸值越大,图像越清晰,显影时间越短,并具有更良好的图像断面;平行光曝光图像清晰度和断面情况均比点光源好;在合适的成像显影条件下,经UV白光接触曝光高支化感光聚合物抗蚀剂图像分辨率可达到约1μm.

关键词: 高支化 , 感光聚酯 , 光致抗蚀剂 , 光成像

h-线敏感光致产碱剂PNCDP的合成与表征

刘金刚 ,

影像科学与光化学

设计并合成了一种对高压汞灯发射光谱中的h-线(405 nm)敏感的新型光致产碱剂(PBG)--N-{[(5-哌啶-2-硝基苄基)氧]-羰基}-2,6-二甲基哌啶 (PNCDP).通过红外(IR)、核磁(NMR)以及元素分析对PNCDP的结构进行了表征.紫外-可见光谱(UV-Vis)测试结果表明,与传统的i-线(365 nm)敏感PBG--N-{[(4,5-二甲氧基-2-硝基苄基)氧]-羰基}-2,6-二甲基哌啶 (DNCDP)相比,PNCDP的最大紫外吸收波长为395.5 nm,较DNCDP红移了52.5 nm.初步光刻实验表明,PNCDP对h-线具有较好的敏感度.

关键词: 光致产碱剂 , h-线 , 聚酰亚胺 , 光致抗蚀剂

碱溶性光敏树脂在光致抗蚀剂中的应用

朱安峰 , 毛广秀

涂料工业 doi:10.3969/j.issn.0253-4312.2007.02.009

利用合成的碱溶性光敏树脂配制成光致抗蚀剂,对固化速率、碱溶性、涂膜表面干燥性、显影和脱膜等进行了研究.结果表明:树脂含量大于70%时,涂膜具有较好的表面干燥性、显影性和脱膜性能;光引发剂含量为5%左右,固化速率较高;50℃超声波下用3% Na2CO3显影2 min,图象清晰度较高.

关键词: 碱溶性 , UV固化材料 , 光致抗蚀剂 , 显影 , 光敏树脂

含光敏剂的高支化碱溶性感光聚合物的合成及性能

冯宗财 , 王跃川 , 赵凌

高分子材料科学与工程

以1,2,4-苯三甲酸酐、环氧氯丙烷和光敏剂1173合成了分子内带有光敏单元的高支化碱溶性聚酯,聚合反应转化率在1 h内可达90%以上;以甲基丙烯酸缩水甘油酯与高支化聚酯反应制得分子内带有光敏单元的高支化碱溶性光固化树脂;树脂的热转变温度在160～210 ℃,在碱水溶液中溶解性好,无需外加光敏剂在紫外光照射下便可固化、交联,光固化的反差γ可达到7.30。

关键词: 高支化树脂 , 碱溶性聚酯 , 光固化 , 光致抗蚀剂

光敏甲基丙烯酸酯共聚物的合成及在负性光致抗蚀剂中的应用

舒航 , 刘敬成 , 王春林 , 刘仁 , 张胜文 , 刘晓亚

高分子材料科学与工程

以甲基丙烯酸（MAA）、甲基丙烯酸甲酯（MMA）、甲基丙烯酸羟乙酯（HEMA）和甲基丙烯酸苄基酯（BZMA）为原料，通过自由基聚合制备了聚甲基丙烯酸酯系列共聚物PMMHB，再用甲基丙烯酸缩水甘油酯（GMA）与PMMHB反应制得光敏共聚物PMMHB—G。用傅立叶红外光谱（FT—IR）、核磁共振氢谱（^1H-NMR）、凝胶渗透色谱（GPC）、热重分析（TGA）和差示扫描量热（DSC）表征了聚合物的结构与性能，用光学显微镜和扫描电子显微镜（SEM）观测了光致抗蚀剂的耐酸性、微观线路及分辨率。结果表明，随共聚物组成中BZMA含量增加，其分子量（Mn）和玻璃化温度（L）呈下降趋势，热分解温度（Td）提高。光致抗蚀剂的耐酸性随BZMA含量的增加而有所提高。由PMMHB-G制得光致抗蚀剂的图像线路清晰笔直，分辨率可达到40μm。

关键词: 甲基丙烯酸酯 , UV固化 , 光敏共聚物 , 光致抗蚀剂

含N-苯基马来酰亚胺甲基丙烯酸酯共聚物的合成及其在负性光致抗蚀剂中的应用

刘敬成 , 郑祥飞 , 林立成 , 穆启道 , 孙小侠 , 刘晓亚

影像科学与光化学 doi:10.7517/j.issn.1674-0475.2015.03.230

以甲基丙烯酸(MAA)、甲基丙烯酸甲酯(MMA)、N-苯基马来酰亚胺(N-PMI)、甲基丙烯酸环己基酯(CHMA)为反应单体,通过自由基共聚合成了一系列共聚物PMMNC,然后与甲基丙烯酸缩水甘油酯(GMA)反应制备了甲基丙烯酸酯共聚物G-PMMNC.利用傅立叶红外光谱(FT-IR)、核磁共振氢谱(1HNMR)、凝胶渗透色谱(GPC)、差示扫描量热(DSC)等表征了共聚物的结构与性能.随着N-PMI含量的升高,共聚物的分子量增大,玻璃化转变温度升高;以G-PMMNC为基体树脂制备了光致抗蚀剂,考察了光致抗蚀剂的耐酸性和分辨率,研究结果表明,该光致抗蚀剂的耐酸性良好,分辨率为40 μm.

关键词: N-苯基马来酰亚胺 , 甲基丙烯酸酯共聚物 , 光致抗蚀剂 , 分辨率

钨钴硬质合金电化学蚀刻加工研究

吉华 , 王伟 , 田间

表面技术 doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2002.05.012

对YG6硬质合金电化学蚀刻工艺进行了研究,提出了采用光致抗蚀剂作保护膜,在生成一定钝化膜的情况下进行电化学蚀刻的方法.在一定的蚀刻深度范围内,该工艺的可控性好、腐蚀区表面质量较好.

关键词: 电化学蚀刻 , 光致抗蚀剂 , 钨钴硬质合金

GMA改性超支化聚合物的合成及在光致抗蚀剂中的应用

熊小梅 , 刘敬成 , 刘仁 , 贾秀丽 , 江金强 , 刘晓亚

高分子材料科学与工程

通过巯基链转移支化聚合法,以4-乙烯基苄硫醇(VBT)为支化单体,丙烯酸正丁酯(BA)、苯乙烯(St)、丙烯酸(AA)为共聚单体,偶氮二异丁腈(AIBN)为引发剂,丙二醇甲醚醋酸酯(PMA)为溶剂,合成了HBPs.利用甲基丙烯酸缩水甘油酯(GMA)环氧基与HBP羧基的反应,向HBP中引入双键制备了具有碱溶性和光固化特性的G-HBP.采用FT-IR、1 H-NMR、DSC、凝胶色谱(GPC)-激光光散射(LS)-示差黏度(DV)三检测仪表征了聚合物的结构及性能,验证了其超支化结构;将合成的G--HBP用作负性光致抗蚀剂的主体树脂,测试了光致抗蚀剂显影成像过程参数.结果表明,显影时间为40 s,去膜时间为30 s,感度级数为7级.抗蚀剂性能优异,分辨率可达到40 μm.

关键词: 超支化 , 巯基链转移 , 光致抗蚀剂

全息母板喷银工艺研究

陈万金

材料保护 doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2001.04.022

关键词: 全息模板 , 喷银法 , 光致抗蚀剂

超支化聚酯微光学光致抗蚀剂

冯宗财 , 赵凌 , 王跃川 , 杜春雷

应用化学 doi:10.3969/j.issn.1000-0518.2006.07.014

由链末端含有-COOH、-OH和丙烯酰氧基的超支化聚合物、多官能丙烯酸酯和光引发剂三组分组成光致抗蚀剂. 在玻璃片上成膜后硬度可达到HB～H的铅笔硬度. 抗蚀剂膜用混合UV光源曝光和四甲基氢氧化铵(TMAH)水溶液显影可获得E0约为5.5×10-3 J/cm2的灵敏度和γ约为8的高反差. 其曝光的灵敏度和反差γ可由显影液和光引发剂调节. 并且显示出刻蚀深度随曝光能量呈现线性变化的关系. 此特性使得该类抗蚀剂可用于微光学元件加工,并可对其表面形状进行控制. 使用该类抗蚀剂,通过移动掩膜曝光制备了200 μm×200 μm的微透镜阵列.

关键词: 超支化聚合物 , 光致抗蚀剂 , 微透镜阵列