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ICP-AES法测定金属硅中杂质元素

成勇 , 肖军 , 宁燕平 , 胡金荣

冶金分析 doi:10.3969/j.issn.1000-7571.2005.03.022

以HF挥发除去基体后,电感耦合等离子体光谱法(ICP-AES)对金属硅中Fe,Al,Ti,Ca,Cu,As,Pb等23个可能共存的杂质元素同时定量测定,并用差减法计算出基体元素硅的含量,只需一次测定即能实现金属硅样品的全分析.试验了共存元素间的干扰影响情况,优选了元素分析谱线和仪器工作参数,运用同步背景校正法、K系数法来消除共存元素间干扰和试液雾化进样的物理化学因素影响.方法简便快捷、易于操作掌握,测定回收率、精密度、检出限均取得了满意结果.

关键词: ICP-AES , 金属硅 , 杂质元素 , 全分析

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