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硅单晶Czochralski法生长全局数值模拟Ⅱ.质量传递特性

李友荣 , 阮登芳 , 彭岚 , 吴双应

材料研究学报 doi:10.3321/j.issn:1005-3093.2004.02.019

使用有限元方法对炉内的质量传递过程进行了全局数值模拟,研究了硅单晶Czochralski(Cz)法生长时氧传输的基本特性.结果表明:在小型硅Cz炉中,晶体中的氧浓度主要取决于熔体的流型和气相传质速率;安装在热区的气体导板可有效强化气相传质系数并改变熔体的流型,Marangoni效应可将自由界面处低氧浓度的熔体带至结晶界面,使晶体中氧浓度降低.

关键词: 材料科学基础学科 , 全局分析 , 有限元方法 , 硅Cz炉 , 质量传递

硅单晶Czochralski法生长全局数值模拟Ⅰ.传热与流动特性

李友荣 , 阮登芳 , 彭岚 , 吴双应

材料研究学报 doi:10.3321/j.issn:1005-3093.2004.02.018

利用有限元方法对炉内的动量和热量传递过程进行了全局数值模拟,研究了硅单晶Czochral-ski(Cz)法生长时的总体传热和流动特性.假定熔体和气相中的流动都为准稳态轴对称层流,熔体为不可压缩流体,Cz炉外壁温度维持恒定,模拟结果表明:熔体流型及炉内传热特性与Marangoni效应密切相关,设置在晶体和坩埚间的气体导板能降低加热器的功率并改变熔体流型.

关键词: 材料科学基础学科 , 全局分析 , 有限元方法 , 硅Cz炉

轴向磁场对硅单晶Czochralski生长过程的影响

李友荣 , 余长军 , 吴双应 , 彭岚

材料研究学报 doi:10.3321/j.issn:1005-3093.2005.03.005

利用有限元方法对炉内的传递过程进行了全局数值模拟,假定熔体和气相中的流动都为准稳态轴对称层流,熔体为不可压缩流体,Cz炉外壁温度维持恒定,模拟磁场强度范围为(0~0.3)T,研究了用Czochralski(Cz)法生长单晶硅轴向磁场对熔体流动和氧传输过程的影响.结果表明:轴向磁场可有效地抑制熔体内的流动,但增大加热器功率和结晶界面处晶体内的轴向温度梯度;对于常规Cz炉,轴向磁场可增大结晶界面平均氧浓度,而对于具有气体导板的Cz炉,则会减小结晶界面平均氧浓度.

关键词: 材料科学基础学科 , 全局分析 , 有限元方法 , 硅Cz炉 , 轴向磁场

表面张力温度系数对硅单晶生长的影响

材料研究学报

利用有限元方法对硅单晶Czochralski(Cz)法生长炉内的流动和传输过程进行了全局数值模拟,研究了表面张力温度系数对硅单晶生长过程的影响,模拟的表面张力温度系数范围是(0~0.35)×10-3N/m·K.结果表明:随着表面张力温度系数的增加,由Marangoni效应驱动的熔体表面流动能强化熔体的自然对流,从而减小了通过熔体自由界面的温差,降低了加热器的功率.但是,结晶界面更凸向熔体,在结晶界面处晶体内的轴向温度梯度减小;对常规Cz炉,结晶界面处的平均氧浓度先减小然后增大,而对于具有气体导板的Cz炉,Marangoni效应总是使结晶界面处的平均氧浓度减小.

关键词: 材料科学基础学科 , 全局分析 , 有限元方法 , 硅Cz炉 , 表面张力温度系数

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