昝青峰
,
黄勇
,
汪长安
,
李淑琴
,
李翠伟
材料工程
doi:10.3969/j.issn.1001-4381.2001.05.006
用SiC晶须和长柱状β-Si3N4对Si3N4/BN层状材料的基体层和分隔层进行了强化。轧膜工艺对SiC晶须和原料中存在的少量β-Si3N4晶粒有一定的定向作用，而基体层中定向分布的SiC晶须和长柱状的β-Si3N4晶粒对基体层的强韧化作用类似于块体材料，其抗弯强度和断裂韧性的提高幅度都大于50%；分隔层中β-Si3N4的定向度较差，但这有利于形成网状结构，在分隔层中起到骨架的作用，同时还可以增加裂纹的扩展长度，改善分隔层与基体层的界面结合状态。最终得到性能最佳的材料的成分为Si3N4+20wt%SiC晶须（基体层），BN+15vol%β-Si3N4（分隔层），其断裂功可达4820J/m2，抗弯强度仍可保持在650MPa。
关键词:
层状材料
,
SiC晶须
,
长柱状β-Si3N4
,
分隔层
