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304不锈钢点蚀行为的电化学阻抗谱研究

杜楠 , 叶超 , 田文明 , 赵晴

材料工程 doi:10.11868/j.issn.1001-4381.2014.06.013

综合运用动电位电化学阻抗谱(DEIS)和时间扫描模式下的电化学阻抗谱(TSEIS)研究了304不锈钢在3.5%(质量分数)NaCl溶液中的点蚀行为.DEIS的结果表明,在比点蚀电位0.15V负得多的电位0.02V下,亚稳态点蚀就已经开始,并且亚稳态蚀孔的产生与再钝化是随机的,DEIS测试得到的稳态点蚀电位比动电位极化法得到的点蚀破裂电位要负0.05V.TSEIS的结果表明,只有在钝化膜减薄到一定程度后,点蚀的形核才能发生.通过对等效电路中元件参数的分析,揭示了点蚀发展过程中双电层和钝化膜结构的变化特点.

关键词: 304不锈钢 , 点蚀 , 动电位电化学阻抗谱 , 时间扫描电化学阻抗谱

电化学阻抗谱法对304不锈钢孔蚀生长和再钝化阶段的原位研究

张胜寒,檀玉,梁可心

中国腐蚀与防护学报

利用动电位电化学阻抗谱(DEIS)法研究了304不锈钢在0.1 mol/L NaCl 溶液中的孔蚀行为,比较了孔蚀前后钝化膜的电化学阻抗谱的变化。提出了一种改进的双层膜结构,用以评价不锈钢在孔蚀的初始阶段和再钝化阶段各个参数的不同,指出孔蚀对钝化膜外层破坏较内层严重。使用活化控制的膜破裂模式评价孔蚀的初始阶段和再钝化阶段各个参数变化。

关键词: 不锈钢 , DEIS , pitting corrosion , passive films

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