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日本电子电镀工业中的化学镀金工艺(一)

嵇永康 , 胡培荣 , 卫中领

电镀与涂饰

本文分2部分,介绍了日本电子电镀工业化学镀金工艺.第一部分论述了早期使用的硼氢化钾和DMAB两种镀液体系的组成及反应机理.指出了两种镀液体系存在的问题.提出了提高镀速的8种措施.

关键词: 电子电镀 , 化学镀金 , 硼氢化钾 , 二甲胺硼烷 , 镀速

提高化学镀金沉积速率相关因素研究

黎松强 , 吴馥萍

黄金 doi:10.3969/j.issn.1001-1277.2007.01.002

研究了稳定剂和金属离子(Zn2+、Co2+ 、Ni2+ 、Cu2+)以及pH、温度等因素对化学镀金沉积速率的影响.对镀液组成和工艺条件进行了优化筛选,使沉积速率提高一倍以上.

关键词: 化学镀金 , 沉积 , 速率 , 因素

工程塑料表面化学镀金工艺

张明

电镀与涂饰 doi:10.3969/j.issn.1004-227X.2005.12.009

介绍了工程塑料表面两步法化学镀金工艺:先进行化学镀镍,然后利用镍和金的置换反应化学镀金.通过讨论温度、pH对镀层的影响,确定最佳微蚀液为双氧水与硫酸的体积比为1∶ 4的混合液,镀镍与镀金最佳温度都为85~90 ℃,最佳pH分别为4.7~4.9、4.4~4.8.说明了几点注意事项.实际应用表明,该镀金层结合力强,具有较好的机械强度与耐磨性,空隙小,表面均匀、光洁,金的纯度可达99.9%.提出了对塑料表面镀金工艺还需深入研究的几个方面.

关键词: 工程塑料 , 化学镀金 , 化学镀镍 , 微蚀 , 双氧水 , 硫酸

Au/p-CdZnTe欧姆接触的电学测量及界面特性分析

张连东 , 聂中明 , 傅莉 , 查钢强 , 介万奇

功能材料

采用化学镀金法在高阻p-CZT(CdZnTe)晶片表面制备Au电极,并用改进的圆环传输线模型(Ring-CTLM)测量了CZT电极的接触电阻,探讨了大气气氛下退火温度对CZT电极欧姆特性的影响.实验结果表明,200℃退火可以显著改善欧姆特性,使接触电阻率ρc显著减小,采用Ring-CTLM模型测得CZT与金电极接触电阻率为0.1524Ω·cm2.通过XPS分析了CZT与Au电极接触界面的成分,发现在Au/p-CdZnTe界面处形成了CdTeO3层,该界面层可起到载流子复合中心的作用,构建的新模型很好地解释了化学镀金法在p-CdZnTe晶片表面形成欧姆接触的机理.

关键词: CdZnTe晶片 , 化学镀金 , 接触电阻率测量 , CdTeO3界面层

日本电子电镀工业中的化学镀金工艺(二)

嵇永康 , 胡培荣 , 卫中领

电镀与涂饰

文章第二部分论述了提高硼氢化钾和DMAB体系镀液稳定性的方法,并介绍了新型化学镀金体系:NaAuCl4的胺硼烷镀液体系、亚硫酸盐镀液体系和硫代硫酸盐镀液体系.通过金配离子的稳定常数和阴、阳极极化曲线的对比,讨论了亚硫酸盐镀液体系和硫代硫酸盐镀液体系中金的析出速率.

关键词: 电子电镀 , 化学镀金 , 镀液稳定性 , 镀速 , 极化

添加剂对压电陶瓷表面化学镀金工艺的影响

赵林南 , 张娜 , 张颖 , 田栋 , 陶珍东

材料保护

为了提高压电陶瓷表面无氰化学镀金工艺的镀速,改善镀层的性能,在其镀液中分别添加聚丙烯酰胺和聚乙二醇进行化学镀金.通过质量差法、扫描电镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)以及腐蚀试验,研究了这2种添加剂对镀速、镀层形貌、晶相结构及耐腐蚀性的影响.结果表明:加入聚乙二醇1.5 g/L或聚丙烯酰胺2.0 g/L时,化学镀镀速较高,镀层性能较好;在最佳浓度条件下,添加聚乙二醇时镀速较高,而添加聚丙烯酰胺时镀层耐腐蚀性好.

关键词: 化学镀金 , 压电陶瓷 , 聚乙二醇 , 聚丙烯酰胺 , 镀速 , 镀层性能

微波器件化学镀金研究

周伟 , 郭珊云 , 陈志全 , 刘建

电镀与涂饰 doi:10.3969/j.issn.1004-227X.2003.06.004

研制出特殊工艺的微波器件用化学镀金液.研究了还原剂浓度、KOH浓度、KCN浓度、温度及使用周期对化学镀金沉积速率的影响,还研究了超声搅拌对镀层性能的影响.通过盐雾试验及传统的弯曲试验、锉刀试验、划痕试验对镀金层的耐蚀性及结合力进行了测试.结果表明,使用合适的超声搅拌及较好的其它工艺参数,得到的镀金层表面致密、耐蚀性强、结合力优良.

关键词: 微波器件 , 化学镀金 , 超声搅拌

一种无氰化学镀金工艺的研究

吴赣红 , 李德良 , 董坤 , 曹璟

表面技术 doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2008.03.020

为了确定一种无氰亚硫酸金钠化学镀金的最佳工艺条件,并使其具有工业上的可行性,利用镀层厚度测试和镀层结合力测试等性能检测手段,研究了该工艺中镀液组分和操作条件对镀层的影响.结果表明:当溶液中亚硫酸金钠(以金计)为 1~3g/L,亚硫酸钠为13g/L,按乙二胺/Au=(6~10)∶〖KG-*2/3〗1比例投入,磷酸氢二钾为30g/L,pH为8~9,温度为50~60℃时,可以得到光亮均匀的镀金层.

关键词: 无氰化学键 , 亚硫酸金钠 , 化学镀金

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