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离子印迹法制备对铜离子(Ⅱ)选择性吸附的碳基材料

彭维 , 李杰 , 程舸 , 谢珍珍 , 石磊

应用化学 doi:10.11944/j.issn.1000-0518.2015.11.150026

通过钨离子印记方法,合成了对铜离子有高选择性吸附性能的碳基材料.在四乙烯五胺(TEPA)、钨酸铵和葡萄糖摩尔比为1:1:5条件下,经水热法合成的碳基吸附材料能有效地吸附铜离子,对铜离子吸附的最佳pH =5.在Cd2、Co2、Cu2+、Ni2+和Zn2摩尔浓度相近体系中,离子印记碳基吸附材料对铜离子的吸附率高达97.2%,而对Cd2+、Co2、Ni2、Zn2吸附率分别为20.1%、9.63%、20.3%、13.3%,表明这种离子印记碳基吸附材料对Cu2具有非常优异的选择吸附能力.

关键词: 印迹法 , 铜离子吸附 , 碳基材料 , 吸附选择性

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