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氩氧比对磁控溅射ZnO薄膜的压电响应与极化特性的影响

苏林 , 杨保和 , 王芳 , 李翠平 , 戴玮

人工晶体学报

保持总的工作气压不变,在不同氩氧比条件下,采用射频磁控溅射法在铝电极层上制备了ZnO薄膜.用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)和压电响应力显微镜(PFM)分析了ZnO薄膜的择优取向、表面形貌和压电响应,并通过垂直PFM(VPFM)和水平PFM(LPFM)相位图研究了ZnO晶粒的极化特性.结果表明,氩氧比对ZnO薄膜的晶体结构和压电特性有显著影响,其中在氩氧比1∶1的条件下制备的ZnO薄膜具有最大的VPFM振幅和最佳的极化取向一致性.

关键词: 氩氧比 , 磁控溅射 , ZnO薄膜 , 压电响应 , 极化取向

粗大晶粒PZT陶瓷中电畴的结构

戴林杉 , 包生祥 , 曾慧中

材料研究学报 doi:10.3321/j.issn:1005-3093.2004.05.009

应用扫描力显微镜(SFM)的压电响应模式观测未经抛光处理的PZT陶瓷片的电畴结构,用纵向压电响应信号和侧向压电响应信号获得PZT陶瓷材料三维电畴结构.结果表明,将样品晶粒的微形貌与SFM的纵向和侧向压电响应信号相结合,能准确表征粗大晶粒样品的三维电畴结构.用SFM可观测表面不经任何处理的陶瓷样品的电畴,不会引入表面应力等影响因素,能得到样品的原生畴结构.对原生畴结构的观察表明,对于受应力较大的晶粒,成畴的主要原因是降低应变能,而受应力较小的晶粒成畴的主要原因是降低退极化能.

关键词: 无机非金属材料 , 铁电体 , 扫描力显微镜 , 电畴 , PZT陶瓷 , 压电响应

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