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壳聚糖的分维模拟及自组装复合膜的制备与表征

吴扬哲 , 王彬 , 雷勇波 , 蔡继业

高分子材料科学与工程

用原子力显微术及计算机模拟计算研究了壳聚糖的分形维数,壳聚糖与肝素形成的自组装复合膜.对壳聚糖的分形维数的模拟计算表明,壳聚糖胶粒堆积程度越高,其分形维数越小.利用两种方法即层层自组装法和混合成膜法制备了壳聚糖/肝素的复合膜,与后一方法所制备的膜相反,前一方法制备的膜的表面颗粒虽然较小但平均粗糙度较大.原子力显微术是生物大分子分形表征、生物膜表征的有力工具.

关键词: 壳聚糖 , 分形 , 分形维数 , 自组装复合膜 , 原子力显微术

N-β-氨乙基-γ-氨丙基聚二甲基聚二苯基硅氧烷的膜形貌及其XPS分析

安秋凤 , 李明涛 , 王前进

高分子材料科学与工程

利用八甲基环四硅氧烷D4与氨基硅烷以及二苯基二甲氧基硅烷等的聚合反应,合成了一种N-β-氨乙基-γ-氨丙基聚二甲基聚二苯基硅氧烷(PASO),用原子力显微镜AFM、光电子能谱XPS等仪器研究了PASO的成膜形态、表面相组成及膜的表面性能.结果表明,在单晶硅表面,PASO可形成略显粗糙的疏水性硅膜,在其表面有纤细尖峰存在.因此,在观察标尺为3 nm、扫描范围为2 μm×2 μm的条件下,PASO膜表面的均方根粗糙度达到了0.228 nm.

关键词: 氨基硅 , 聚二苯基硅氧烷 , 原子力显微术 , 膜形貌 , 疏水性硅膜

摩擦强度对薄膜表面形态的作用:原子力显微镜下的观察

郑文军

液晶与显示 doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2002.06.003

展示了摩擦强度对聚酰亚胺薄膜表面形态的影响.原子力显微图像显示,机械摩擦会使聚酰亚胺薄膜表面上形成微沟槽.这些沟槽的表面具有丰富的表面精细构造.原子显微图像还揭示了机械摩擦可以改变被磨擦聚酰亚胺膜的表面形态.

关键词: 液晶定向 , 摩擦聚酰亚胺膜 , 摩擦强度 , 原子力显微术

晶须增强纯铝基复合材料表面腐蚀形貌的原子力显微术观察

胡津 , 姚忠凯 , 赵连城

金属学报 doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2002.09.021

利用原子力显微镜观察了纯铝基复合材料早期腐蚀过程中表面形貌的变化特征.研究了SiCw/Al和Al18B4O33w/Al两种复合材料的腐蚀行为结果表明:两种复合材料在3.5%NaCl溶液中具有明显的点蚀倾向,且随腐蚀时间的增加,点蚀坑的尺寸显著增大.观察发现晶须与基体的界面是腐蚀易于发生的地方,点蚀首先在晶须的端部产生,随后沿着晶须与基体的界面扩展.SiCw/Al和Al18B4O33w/Al复合材料的界面腐蚀机制存在较大的差别,这主要是由于二者界面结合状态不同造成的.

关键词: 纯铝基复合材料 , 点蚀 , 原子力显微术

晶须增强纯铝基复合材料表面腐蚀形貌的原子力显微术观察

胡津 , 姚忠凯 , 赵连城

金属学报

利用原子力显微镜观察了纯铝基复合材料早期腐蚀过程中表面形貌的变化特征.研究了SiCw/Al和Al18B4O33w/Al两种复合材料的腐蚀行为结果表明:两种复合材料在3.5%NaCl溶液中具有明显的点蚀倾向,且随腐蚀时间的增加,点蚀坑的尺寸显著增大.观察发现晶须与基体的界面是腐蚀易于发生的地方,点蚀首先在晶须的端部产生,随后沿着晶须与基体的界面扩展.SiCw/Al和Al18B4O33w/Al复合材料的界面腐蚀机制存在较大的差别,这主要是由于二者界面结合状态不同造成的.

关键词: 纯铝基复合材料 , null , null

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