欢迎登录材料期刊网

材料期刊网

高级检索

  • 论文(44)
  • 图书()
  • 专利()
  • 新闻()

强碱化铣液中Al(Ⅲ)的去除方法

魏立安 , 冯强 , 陈静

材料保护

如何去除化铣液中的溶解铝,使化铣液循环利用,目前还没有非常有效的方法.分别采用空气曝气法、超声强化法、CaO结晶法和Al(OH)3结晶法处理强碱化铣液,探讨了4种方法去除化铣液中Al(Ⅲ)的效果和优缺点.结果表明:空气曝气法和超声强化法处理化铣液,Al(Ⅲ)的浓度无明显变化,去除效果不显著;CaO结晶法去除Al(Ⅲ)的效果显著,但会引入新的物质而影响化铣液的回收使用;Al(OH)3结晶法中,化铣液的Al(Ⅲ)浓度在添加Al(OH)3后先上升后下降,说明添加Al(OH)3作为晶核有一定的去除效果.

关键词: 化铣液处理 , 去除率 , 溶解铝 , 空气曝气法 , 超声强化法 , CaO结晶法 , Al(OH)3结晶法

高炉瓦斯灰氯化焙烧脱除有害元素及回收铁试验

邓永春 , 贾素奇 , 吴胜利 , 姜银举

钢铁钒钛 doi:10.7513/j.issn.1004-7638.2015.06.010

包钢高炉瓦斯灰由于受白云鄂博铁矿石成分复杂性的影响,其含铁量低、有害元素碱金属氧化物K2O、Na2O和Pb、Zn氧化物含量高.通过利用瓦斯灰中的碳、或在瓦斯灰中配入氯化钙,采用还原-蒸发-磁选、氯化-挥发的方法,使其中的钾、钠、铅和锌氧化物转变为易蒸发的单质或转化为易挥发的氯化物,从而达到与瓦斯灰分离的目的.还原-蒸发-磁选试验结果表明:在温度为1 000℃,反应时间为2h时,Na、Pb、Zn的去除率可达到94.21%、98.53%、91.98%,而K不能通过碳还原去除;以950℃、反应2.0h的还原-蒸发产物为原料进行磁选,当磁选电流为0.6A时,铁的回收率达90.24%.氯化-挥发试验结果表明:当温度为1 000℃时,Pb、Zn的去除率分别为99.62%、85.56%;Na、K的去除受温度影响不大,在试验条件下,均可达到98%以上,K的去除是通过氯化反应进行的,而Na的去除是碳的还原和氯化反应同时进行的结果,但氯化反应更易发生.

关键词: 高炉 , 瓦斯灰 , 还原 , 蒸发 , 磁选 , 氯化 , 去除率

PLA/TCMC静电纺丝膜的制备及溶液中Cu2+离子的去除

陈哲 , 林晓艳 , 李莹 , 罗学刚

膜科学与技术

采用静电纺丝技术制备不同质量比的PLA/TCMC静电共混纺丝膜,并通过FTIR、TG、DSC及拉伸测试进行表征.同时将质量比为60:40的静电共混纺丝膜应用于溶液中Cu2+去除研究,考察了初始浓度、流动时间、使用次数等对静电共混纺丝膜去除溶液中Cu2+的能力.结果表明:PLA与TCMC的质量比为60:40时,纺丝才能得到的纤维直径比较均匀,纤维形貌较好、具有较好的热稳定性和拉伸强度;静电共混纺丝膜能一定程度地去除溶液中的铜离子,其去除率最高可达13.77%;去除率受初始浓度的影响,当初始浓度为40mg/L时去除率最高;随着处理时间的增大,使用次数的增加,膜对溶液的去除率逐渐降低,膜的使用效果逐渐减弱.

关键词: PLA/TCMC , 静电纺丝 , 纳米纤维膜 , 重金属离子 , 去除率

NTP电极结构对光催化去除室内HCHO的影响研究

鹿院卫 , 王丁会 , 马重芳

工程热物理学报

为了提高室内污染物甲醛的去除效率,本文采用光催化技术协同低温等离子体(NTP)技术分析两种不同电极结构对室内甲醛去除效果,结果表明,线板式电极结构对污染物去除效果优于线管式电极结构,光催化技术与NTP技术相结合可明显提高污染物的去除效果,同时达到提高污染物处理量的目的.将光催化技术与NTP技术相结合是光催化技术实际应用的一个研究方向.

关键词: 等离子体 , 光催化 , TiO2 , 去除率

改性铝土矿去除水中Cl-,NO3-和NO2-的研究

刘娜 , 刘鹏 , 张兰英 , 张凯顺

黄金 doi:10.3969/j.issn.1001-1277.2008.07.014

对铝土矿改性后,对去除水中Cl-,NO3-和NO2- 3种阴离子效果进行了研究,确定了改性铝土矿去除3种阴离子的最佳条件.试验结果表明,Cl-,NO3-质量浓度为200mg/L,NO2-质量浓度为100mg/L,改性铝土矿投加量为5.0g/L,搅拌时间分别为30min、10min和10min,搅拌速度为60-80r/min时,去除效果最好,去除率分别为87.0%、80.9%和81.6%.

关键词: 改性铝土矿 , Cl- , NO3- , NO2- , 去除率

4H-SiC的强氧化液化学机械抛光

梁庆瑞 , 胡小波 , 陈秀芳 , 徐现刚 , 宗艳民 , 王希杰

人工晶体学报

研究了一种新型的化学机械抛光方法,使用以KMnO4作为氧化剂的强氧化性化学机械抛光液(SOAS)进行化学机械抛光.研究了在4H-SiC硅面和碳面的化学机械抛光过程中,SOAS溶液中KMnO4的浓度对抛光质量的影响.使用原子力显微镜(AFM)和精密电子天平,分别测试了表面粗糙度和去除率.结果表明,适量的KMnO4可以大幅度提高4H-SiC的化学机械抛光去除率,同时可提高4H-SiC衬底的表面抛光质量.

关键词: 碳化硅 , 化学机械抛光 , 高锰酸钾 , 粗糙度 , 去除率

胶团强化超滤处理难降解有机污染物废水

周春飞 , 黄瑾辉 , 曾光明 , 罗芳 , 李雪 , 黄华军

膜科学与技术 doi:10.3969/j.issn.1007-8924.2010.05.023

胶团强化超滤(MEUF)是一种表面活性剂和超滤结合的废水处理新技术,能够高效去除废水中低分子量和低浓度的难生物降解有机污染物,克服传统方法去除效率低、能耗高的局限性.结合近年来胶团强化超滤技术去除有机污染物的研究成果,综述其作用原理、采用的表面活性剂种类、适于去除的有机污染物的种类、膜的选择、影响因素,并展望了该技术的发展方向.

关键词: 表面活性剂 , 超滤膜 , 影响因素 , 渗透通量 , 去除率

多元微电解降解铝制品镀镍染色废水

秦树林

电镀与涂饰

以多孔结构的多元合金为填料,采用微电解法处理镀镍染色有机废水.以废水COD(化学需氧量)去除效率为指标,研究了废水初始pH、填充比、微电解时间等对废水处理效果的影响.多元微电解处理镀镍染色废水的最佳工艺为:初始pH 3.0,填充比1∶1,时间120 min,充氧曝气.在最优工艺下,COD的平均去除率为74.7%,出水COD、镍及总铬的平均质量浓度分别为74.8、0.066和0.067 mg/L,总铁含量也小于0.5 mg/L,满足GB 21900-2008的排放要求.

关键词: 镀镍 , 染色 , 废水 , 多元微电解 , 有机物 , 去除率

Fenton氧化-曝气生物滤池处理电镀铜镍废水的研究

赵静 , 黄瑞敏 , 聂凌燕 , 罗强 , 何鉴尧

电镀与涂饰

采用Fenton氧化-曝气生物滤池(BAF)组合工艺对电镀铜镍废水进行了处理.研究了初始pH、ρ(Fe2+)/ρ(H2O2)比值以及H2O2投加量对CODcr去除率的影响,并对该组合工艺进行了经济分析.试验结果表明,经该组合工艺处理后,废水中CODcr去除率达到86%,Cu2+、Ni2+浓度均符合相关排放标准.

关键词: 芬顿氧化 , 曝气生物滤池 , 电镀废水 , 化学需氧量 , 去除率

膜吸收法处理工业废水过程中PVDF膜及组件优化

贾悦 , 齐麟 , 吕晓龙

高分子材料科学与工程

以含氨废水为代表,采用实验室自制疏水性微孔聚偏氟乙烯(PVDF)中空纤维膜组件,通过实验考察了膜吸收工艺用于工业废水处理过程中膜丝及膜组件结构参数对传质效率和污染物去除率的影响.结果表明,膜吸收法去除废水中挥发性污染物效果良好,可以通过减小膜丝壁厚、增大膜丝内径来促进传质;另外,合理设计膜组件的长度和装填密度,可以近乎完全去除废水中的氨(去除率>99%).实现废水的达标排放.

关键词: 膜吸收 , 聚偏氟乙烯中空纤维膜 , 组件参数 , 传质系数 , 去除率

  • 首页
  • 上一页
  • 1
  • 2
  • 3
  • 4
  • 5
  • 下一页
  • 末页
  • 共5页
  • 跳转 Go

出版年份

刊物分类

相关作者

相关热词