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制备45°双外延超导结的新工艺

李壮志 , 王福仁 , 孟树超 , 马平 , 聂瑞娟 , 戴远东

低温物理学报 doi:10.3969/j.issn.1000-3258.2005.03.010

我们使用脉冲激光沉积方法对YBa2Cu3O7-δ(YBCO)薄膜在MgO基片上通过CeO2/YSZ双缓冲层的生长进行了系统的研究,发现MgO单晶基片的表面质量是决定能否得到理想外延薄膜质量的关键因素,通过使用低能离子束对MgO表面进行轰击,以增加其表面粗糙度和去除变质层,得到了具有100%面内45°旋转的YBCO外延膜,其临界电流密度77K时在106A/cm2量级.通过湿法刻蚀得到的双外延Josephson结表现出RSJ特性.

关键词: YBCO薄膜 , 双外延超导结 , 低能离子束

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