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双重加热法合成碳化硅晶须的研究

戴长虹 , 孟永强 , 赵茹 , 宋祖伟

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2003.01.017

本文给出了一种低成本、适用于大批量生产碳化硅晶须的新方法,以炭黑和SiO2微粉为原料对用双重加热法合成碳化硅晶须进行了研究.研究表明,利用双重加热技术可以在较低合成温度1300℃下、较短合成时间1.5h内得到平均直径为0.3μm、长度为10～40μm、生成率达81%的碳化硅晶须.

关键词: 碳化硅 , 晶须 , 双重加热