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纳米TiO2/聚氨酯复合涂层的电化学阻抗研究

庞宇 , 熊磊 , 刘建萍 , 李新义 , 李晓刚

腐蚀科学与防护技术 doi:10.11903/1002.6495.2015.357

研究了含量分别为0%,1%,3%和5%(质量分数)的硅烷偶联剂改性前后的纳米TiO2对涂覆在45#碳钢上的聚氨酯涂层耐蚀性能的影响.场发射电镜(FESEM)测试结果表明,未改性纳米TiO2在涂层中以团聚体的状态存在,经过硅烷偶联剂KH-570改性后的纳米TiO2在涂层中均匀分散,其中含量为3%的涂层结构最为致密.采用电化学阻抗(EIS)技术研究了纳米TiO2/聚氨酯复合涂层在3.5%NaCl溶液中浸泡不同时间的阻抗行为,实验结果表明添加硅烷偶联剂改性纳米TiO2可明显提高聚氨酯涂层的耐蚀性,其中含3%改性纳米TiO2的涂层在浸泡过程中,始终呈现一个时间常数特征,在浸泡至2880h后,涂层电阻仍然为2.6× 108Ω·cm2,明显高于其他组分的涂层电阻,表明该涂层具有最好的耐蚀性.

关键词: 纳米TiO2 , 表面改性 , 聚氨酯 , 场发射电子显微镜 , 电化学阻抗谱

GaN场发射高分辨电子显微像的图像处理-显示GaN中原子分辨率晶体缺陷的可能性

王怀斌 , 李方华

金属学报 doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2002.06.006

本文介绍了场发射高分辨电子显微像的图像处理原理,用300 kV场发射电子显微镜的参数模拟了GaN完整晶体和缺陷晶体结构模型的显微像.经过处理的显微像上能够分辨间距为0.112nm的Ga和N原子,并能显示N原子空位.

关键词: GaN , 晶体缺陷 , 高分辨电子显微学 , 场发射电子显微镜 , 解卷处理

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