刘野
,
黄美东
,
路少怀
,
吴功航
,
李洪玉
电镀与精饰
doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2013.05.009
采用电弧离子镀的方法,在硅片上制备TiN仿金装饰膜层,主要研究氮气分压和基体偏压两个工艺参数对TiN薄膜色泽的影响.结果表明,氮气压强对TiN薄膜的色泽有明显的影响和控制作用.随着氮气分压的增大,薄膜的色泽由浅黄色向红棕色变化.实验发现,基体偏压对膜层的色泽也有一定的影响,当氮气分压一定时,施加偏压所得TiN薄膜比不施加的颜色更浅.可见,通过调节基体偏压和氮气流量,可以获得所需颜色的TiN薄膜.
关键词:
多弧离子镀
,
TiN薄膜
,
色泽
,
氮气分压
,
基体偏压
耿东森
,
吴正涛
,
聂志伟
,
黎海旭
,
张小波
,
代伟
,
王启民
中国表面工程
doi:10.11933/j.issn.1007-9289.2016.06.009
为研究基体偏压对AlCrSiON纳米复合涂层结构、力学性能和热稳定性的影响规律及机制,采用电弧离子镀技术在硬质合金基体上沉积AlCrSiON涂层.利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、透射电子显微镜(TEM)、纳米压痕仪(划痕仪)研究涂层组织结构和力学性能;通过真空退火试验研究涂层的高温稳定性.结果表明:AlCrSiON涂层为致密柱状晶结构,并主要由c-(Al,Cr)N和c-(Al,Cr)(O,N)两相组成,呈现出纳米复合结构.随着偏压的升高,涂层表面的颗粒数目和尺寸减少,组织结构更加致密;硬度和弹性模量均呈现出先增加后减小的趋势,当偏压为-80 V时分别达到最大值30.1 GPa和367.9 GPa.涂层具有良好的高温稳定性,不同偏压下沉积的AlCrSiON涂层经800-950℃热处理后均能够保持良好的结构稳定性及力学性能,但经1 100℃热处理后涂层发生相分解并引发组织结构变化,导致涂层硬度减小.
关键词:
基体偏压
,
AlCrSiON
,
真空退火
,
组织结构
,
热稳定性
