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ZnS衬底表面制备HfO_2增透保护膜的性能

赵晓静 , 李成明 , 陈良贤 , 刘金龙 , 冯寅楠 , 黑立富 , 吕反修

材料热处理学报

用射频磁控溅射法在CVD ZnS衬底上制备了HfO2薄膜,利用X射线衍射（XRD）,扫描电镜（SEM）、原子力显微镜（AFM）、傅里叶红外光谱（FTIR）和纳米力学探针对HfO2薄膜的结构和性能进行了分析和测试。结果表明,制备的HfO2为单斜相,膜层致密、表面平整、粗糙度仅为3.0 nm,硬度（7.3 GPa）显著高于衬底ZnS的硬度（2.6 GPa）。采用ZnO薄膜作过渡层,可有效提高HfO2与ZnS衬底的结合强度。单面镀制HfO2薄膜后,ZnS衬底在8-12μm长波红外波段的透过率最高可达81.5%,较之ZnS基体提高了5.8%,双面镀制HfO2薄膜后透过率最高可达90.5%,较之ZnS基体提高了14.8%,与理论计算结果吻合较好,适合作为ZnS窗口的增透保护膜。

关键词: ZnS , HfO2薄膜 , 增透保护膜 , 射频磁控溅射

碳化锗双层膜作为增透保护膜的制备及性能

胡超权 , 王笑夷 , 陈红 , 郑伟涛

液晶与显示 doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2010.03.008

利用磁控溅射方法在ZnS基底上设计并制备了一种Ge1-xCx双层膜.研究发现双面镀Ge1-xCx双层膜后,ZnS基底在8～11.5μm远红外波段的平均透过率提高了9.5%,硬度提高了近3倍,而且该双层膜还具有良好的热稳定性和耐热冲击能力.研究结果表明,此Ge1-xCx双层膜是一种高效的ZnS红外窗口增透保护膜.

关键词: 碳化锗 , ZnS红外窗口 , 增透保护膜

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