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中频对靶磁控溅射制备含铬类金刚石薄膜

于翔 , 王成彪 , 刘阳 , 于德洋

材料热处理学报 doi:10.3969/j.issn.1009-6264.2006.02.007

利用新型中频对靶磁控溅射在硅和M2高速钢基体上沉积了一系列无氢含铬类金刚石膜.考察了类金刚石膜的表面形貌、显微结构、硬度、结合力和摩擦磨损性能.结果表明:合成的类金刚石薄膜具有优良的综合性能,硬度为30-46GPa、结合力Lc达50-65N、大气环境下摩擦系数约为0.1.

关键词: 含铬类金刚石薄膜 , 中频对靶磁控溅射 , 多层梯度结构

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