姜礼华
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谭新玉
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肖婷
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向鹏
硅酸盐通报
随着纳米技术的进步,量子点纳米材料在理论和实验研究方面受到越来越多的关注.由于量子点阵列优异的物理性能与其空间分布的有序性十分相关,空间分布有序量子点阵列的大面积重复性制备已成为高性能纳米光电子器件商业化应用的关键.近几十年来,在量子点空间排列分布有序性的提高、缺陷态的减少、成核位置可控以及大面积重复制备方面人们已做了大量研究.本文主要讨论和综述当前在制备空间分布有序硅/锗(Si/Fe)量子点方面的技术工艺和成果,并展望其未来技术发展思路和方向,希望为今后进一步探索研究大面积空间分布有序Si/Ge量子点阵列的制备提供信息参考.
关键词:
Si/Ge量子点
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空间分布有序
,
多层膜结构
,
图案化衬底
董凯锋
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杨晓非
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鄢俊兵
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程伟明
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程晓敏
功能材料
采用射频磁控溅射的方法,在玻璃基片上制备了不同膜层结构的[Fe/Pt]n多层膜,经不同温度真空热处理后,得到L10有序结构的FePt薄膜.实验结果表明,[Fe/Pt]n多层膜结构可以有效降低FePt薄膜的有序化温度,350℃退火30min后其平行膜面矫顽力可达1.6×105A/m;多层膜结构中,Pt层厚度与Fe层厚度相同时,矫顽力最大,当Fe、Pt层厚度比偏离1:1时,在Fe/Pt接触处易产生Fe3Pt和FePt3软磁相;Pt层和Fe层厚度相等且总厚度相同的情况下,Fe、Pt单层厚度越薄,有序化温度越低,且对应的矫顽力大.
关键词:
L10-FePt薄膜
,
多层膜结构
,
矫顽力
,
有序化温度
冯春
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李宝河
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滕蛟
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于广华
稀有金属
doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2005.05.035
利用磁控溅射的方法, 在热玻璃基片上制备了[Fe/Pt]n多层膜, 经不同温度真空热处理后, 得到L10有序结构的FePt薄膜(L10-FePt).实验结果表明: [Fe/Pt]n多层膜结构可使FePt薄膜的有序化温度由500 ℃降到350 ℃, 350 ℃退火20 min后其平行膜面矫顽力可达到421.8 kA·m-1.同时以Ag, Ti, Cu和Pt做底层, 利用[Fe/Pt]n多层膜结构制备了FePt薄膜, 磁性和X射线衍射结果表明: 与[Fe/Pt]n多层膜相比, 四种底层均没有进一步降低FePt薄膜的有序化温度, 其中Ag做底层对[Fe/Pt]n多层膜退火后的平行膜面矫顽力影响较小, 但能够提高其垂直磁各向异性;其他底层均会降低[Fe/Pt]n多层膜在高温退火时的平行膜面矫顽力, 且对其垂直磁各向异性无改善作用.
关键词:
L10-FePt薄膜
,
有序化温度
,
底层
,
多层膜结构
吕坤
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祝柏林
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李珂
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胡文超
,
谢铭
,
吴隽
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2014.13396
采用磁控溅射方法,在H2/Ar混合气氛下制备了GZO薄膜和在Ar气氛下制备了GZO/Cu/GZO多层结构薄膜,分别研究了H2流量和Cu层厚度对薄膜透明导电性能的影响.在此基础上,在H2/Ar混合气氛下制备了GZO/Cu/GZO多层结构薄膜,对Cu层厚度对其性能的影响进行了研究.结果表明,沉积气氛中引入H2能有效降低GZO薄膜的电阻率而提高其透光率,在H2流量为20 sccm时GZO薄膜具有最佳性能.随着Cu厚度的增加,GZO/Cu/GZO多层结构薄膜的电阻率和平均透过率显著下降.在H2/Ar混合气氛下制备的氢化GZO/Cu/GZO多层结构薄膜的电阻率普遍低于Ar气氛下制备的GZO/Cu/GZO多层结构薄膜,但其透光率却随Cu层厚度的增加而显著降低.另外,薄膜的禁带宽度随H2流量的增加而增加,随Cu层厚度的增加而减小.
关键词:
GZO薄膜
,
多层膜结构
,
氢掺杂
,
透明导电薄膜
,
光电性能
裴晨蕊
,
孙德恩
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Sam Zhang
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黄佳木
中国表面工程
doi:10.11933/j.issn.1007-9289.2016.02.001
硬质陶瓷涂层一般硬度高,但韧性差,在受到较大外加冲击荷载作用时容易产生裂纹并引发失效,从而限制了硬质涂层在工程领域的应用.硬质涂层的增韧研究是当前硬质涂层研究的热点之一.常见硬质涂层增韧方法中,有些是以降低硬度为代价来提高涂层韧性,比如第二相增韧;有些是通过优化涂层结构设计,减小缺陷尺寸,在不损失涂层高硬度的前提下,提高韧性,获得兼具高硬度和高韧性的涂层;有些是通过相变(晶体结构转变)提高涂层的韧性.通过优化涂层结构设计,改变涂层晶粒尺寸、晶界尺寸与复杂程度等,使涂层致密化,从而提高涂层硬度与韧性,从而获得增韧效果,成为研究者越来越关注的焦点.单一增韧方法的局限性,可以通过多种增韧方法协同作用获得突破,协同增韧已成为硬质涂层增韧发展的趋势.目前硬质涂层的韧性评估还没有一个公认的方法,从简单实用出发,常用的有微悬臂梁弯曲法、划痕法和压痕法.
关键词:
韧性
,
硬度
,
多层膜结构
,
硬质涂层
冯则坤
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邓联文
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何华辉
功能材料
采用射频磁控溅射法制备了FeCoB/SiO2纳米磁性多层膜,并对其微波特性进行研究.用微波谐振腔法测量了该薄膜的复磁导率,2GHz频率处复磁导率实部及虚部分别可达251和22.7.重点研究了多层膜结构中介质层厚度及薄膜总厚度对磁导率的影响,同时结合直流电阻率ρ、静态磁参数Bs、Hc的测量结果分析,探讨了纳米磁性多层膜的微波高磁导率机理,并提出了微波频率下获得高磁导率及低磁损耗的途径.实验结果也表明这种纳米磁性多层膜材料有望在高频平面变压器、平面电感器、薄膜电磁干扰抑制器等领域获得应用.
关键词:
纳米磁性薄膜
,
多层膜结构
,
微波磁导率
