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原位电阻法研究高温器件焊面多层金属膜间的扩散

杜黎光 , 肖克来提

金属学报

采用原位电阻法测量了高温器件焊面多层金属膜Au/Ti, Pd/Ti在300℃不同气氛下电阻随退火时间的变化, 结果表明, 300℃退火时Au膜中存在Ti的扩散导致电阻显著增加, 但电阻随时间变化与气氛的关系不大, 电阻变化的规律基本符合一维有限厚无限大平面体扩散模型, 空气中退火时电阻增加小于Ar气氛下退火电阻增加, 可用Au膜中Ti扩散速率的差异来解释, Pd/Ti膜在Ar气氛这火时电阻基本无变化.

关键词: 多层金属膜 , null

原位电阻法研究高温器件焊面多层金属膜间的扩散

杜黎光 , 肖克来提 , 朱奇农 , 盛玫 , 罗乐

金属学报 doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2000.12.010

采用原位电阻法测量了高温器件焊面多层金属膜Au/Ti,Pd/Ti在300℃不同气氛下电阻随退火时间的变化.结果表明,300℃退火时Au膜中存在Ti的扩散导致电阻显著增加,但电阻随时间变化与气氛的关系不大.电阻变化的规律基本符合一维有限厚无限大平面体扩散模型.空气中退火时电阻增加小于Ar气氛下退火电阻增加,可用Au膜中Ti扩散速率的差异来解释.Pd/Ti膜在Ar气氛下退火时电阻基本无变化,但空气中退火时因Ti层部分氧化而导致膜的电阻少量增加(约3%).

关键词: Au/Ti , Pd/Ti , 多层金属膜 , 原位电阻法 , 扩散

Au/NiCr/Ta多层金属膜退火后的电阻率异常增大

唐武 , 徐可为 , 王平 , 李弦

金属学报 doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2003.02.013

用磁控溅射方法在A12O3基片上沉积Au/NiCr/Ta多层金属膜,通过X射线衍射技术研究退火前后薄膜晶体取向的变化,Auger电子能谱分析退火前后薄膜沿深度方向的元素分布,四点探针测试退火前后薄膜表面电阻率.结果表明:退火后111Au与200Au衍射强度相对比值减小;薄膜表面电阻率异常增大;退火温度越高,薄膜表面电阻率越大.分析认为主要是由于Ni,Cr元素向金膜表层扩散导致薄膜表面电阻率异常增大.

关键词: Au/NiCr/Ta , 多层金属膜 , 电阻率 , 扩散

金属Ti/Cu多层膜紫外光反射性能研究

罗佳慧 , 李燕 , 杨成韬

功能材料

采用直流磁控溅射方法制备Ti/Cu和Cu/Nb多层金属反射膜,并对膜的紫外光反射性能进行研究,发现该膜的反射性能与基片的结构和温度、多层膜的周期和结构有关.选用取向为(100)的单晶Si为基片,在基片温度为470℃左右、多层膜的周期为30时,膜的结晶性较好.且多层膜的反射率随波长的减小而增加,在波长为250nm时,反射率可达到65%

关键词: 多层金属膜 , 直流磁控溅射 , 紫外反射率

Au/NiCr/Ta多层金属膜退火后的电阻率异常增大

唐武 , 徐可为 , 王平 , 李弦

金属学报

用磁控溅射方法在Al2O3基片上沉积Au/NiCr/Ta多层金属膜, 通过X射线衍射技术研究退火前后薄膜晶体取向的变化, Auger电子能谱分析退火前后薄膜沿深度方向的元素分布, 四点探针测试退火前后薄膜电阻率. 结果表明: 退火后111Au与200Au衍射强茺相对比值减小; 薄膜表面电阻率异常增大; 退火湿度越高, 薄膜表面电阻率越大. 分析认为主要是由于Ni, Cr元素向金膜表层扩散导致薄膜表面电阻率异常增大.

关键词: Au/NiCr/Ta , null , null

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