郝兰众
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李燕
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邓宏
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刘云杰
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姬洪
材料导报
通过研究发现,利用激光分子束外延技术生长的LaAlO3/BaTiO3超晶格薄膜具有良好的电学性能,其剩余极化可达到25μc/cm2.性能决定于结构,因此本文分析研究了LaAlO3/BaTiO3超晶格薄膜的界面结构.首先通过高能电子衍射技术在薄膜生长过程中对各层的生长及界面状况进行观测,再通过小角X射线衍射曲线及其计算机拟合曲线进一步确定超晶格薄膜的界面及结构参数,如界面的粗糙度、单层厚度等.通过研究发现,由于晶格之间的差异,LaAlO3/BaTiO3超晶格薄膜中LaAlO3和BaTiO3层的生长过程及微结构存在着一定的差异.
关键词:
超晶格薄膜
,
LaAlO3/BaTiO3
,
高能电子衍射
,
小角X射线衍射
,
激光分子束外延技术
胡明媚
,
朱丽慧
,
倪旺阳
,
刘一雄
上海金属
doi:10.3969/j.issn.1001-7208.2012.03.005
主要采用常规X射线衍射法(XRD)和小角X射线衍射法对微米级厚度的Ti0.5Al0.5N涂层分别进行了物相检测、晶格常数计算和残余应力测定,并对测量结果进行了比较.结果表明:常规XRD法得到的图谱中基体信息强,而小角XRD法排除了基体衍射峰的干扰,更好地反映出TiAlN涂层信息；与常规XRD相比,小角XRD技术能显著降低晶格常数测量误差,有效测定TiAlN涂层的残余应力值.
关键词:
TiAlN涂层
,
小角X射线衍射
,
物相检测
,
晶格常数
,
残余应力
