李晓伟
,
高延敏
,
李燕熙
腐蚀与防护
为证实缓蚀剂可以控制已经形成完整膜下的钢表面的腐蚀,采用极化曲线法、交流阻抗技术及理论分析研究了NaHCO3溶液中巯基乙酸(TGA)在FeCO3膜表面的吸附行为及其对A3钢腐蚀行为的影响.结果表明:TGA在腐蚀产物膜上形成了多层吸附,其缓蚀机理为"负催化效应",浓度为1000 mg/L时具有最好的缓蚀效果;TGA在腐蚀产物膜表面的吸附反应为自发过程,吉布斯自由能为-25.766 kJ/mol.
关键词:
NaHCO3
,
巯基乙酸
,
吸附
,
腐蚀产物膜
吴雪梅
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马海红
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周正发
,
任凤梅
,
徐卫兵
,
孙海燕
人工晶体学报
以硝酸铋为铋源、硫脲为硫源,分别以小分子有机物-巯基乙酸、柠檬酸及聚合物半导体-羧基化PPV(羧基化的聚对苯乙炔)为模板,利用水热反应法制备了不同形貌的Bi2S3微晶,并对产物用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、紫外-可见-近红外光谱(UV-Vis-Near-IR)等进行表征.结果表明,所制备的Bi2S3微晶为斜方晶系的辉铋矿;在巯基乙酸的作用下,Bi2S3排列成直径约为2~3 μm的花状微晶;在柠檬酸的作用下,Bi2S3晶体呈絮状,结成直径约为2μm左右的绒球;在羧基化PPV的作用下,Bi2S3构成直径约为2μm的绒球.通过由UV-Vis-Near-IR光谱绘制的(αhv)2~hv曲线图计算得到,在不同有机物模板作用下得到的Bi2S3微晶的能带间隙均大于无模板作用得到的Bi2S3,且羧基化PPV的作用效果优于小分子有机物,使能带间隙提高为1.64 eV.
关键词:
Bi2S3
,
巯基乙酸
,
柠檬酸
,
羧基化PPV
,
能带间隙
张友玉
,
谢青季
,
袁玉
,
姚守拙
应用化学
doi:10.3969/j.issn.1000-0518.2002.01.002
用石英晶体阻抗和电化学阻抗联用技术实时监测了溶菌酶在金电极和巯基乙酸或正十二硫醇修饰金电极上的吸附过程. 得到并讨论了等效电路参数、压电石英晶体谐振频率及双电层电容等参数的现场响应. 以两步骤连串反应机理分析溶菌酶吸附动力学. 结果表明,溶菌酶在电极表面的作用分吸附和重排2个过程,双电层电容对吸附分子的重排过程更加敏感. 考察了电极表面亲水性对溶菌酶吸附的影响,测定了溶菌酶吸附前后Fe(CN)3-6/Fe(CN)4-6氧化还原反应标准速率常数和电荷传递电阻. 结果表明,溶菌酶在电极上的吸附量随电极表面疏水性增强而增大,随电极电位变正而减小. 溶菌酶在电极上的吸附使Fe(CN)3-6/Fe(CN)4-6电对电极反应的反应标准速率常数下降,电荷传递电阻增大,显著地降低了Fe(CN)3-6/Fe(CN)4-6电对的可逆性.
关键词:
溶菌酶
,
吸附
,
金电极
,
电化学石英晶体阻抗系统
,
巯基乙酸
,
正十二硫醇
郝海艳
,
王刚
,
徐敏
,
常青
环境化学
doi:10.7524/j.issn.0254-6108.2016.06.2015091104
以聚丙烯酰胺(PAM)和巯基乙酸(TGA)为原料,通过化学反应制备出对Cu(Ⅱ)具有螯合絮凝作用的新型絮凝剂巯基乙酰化聚丙烯酰胺(MAPAM).以水样中Cu(Ⅱ)的去除率为考察对象,在单因素实验的基础上,选取MAPAM制备的影响因素,采用正交试验法和响应曲面法中常用的中心复合设计模型对MAPAM的制备条件进行了优化.结果表明,响应曲面法确定的MAPAM制备条件最优;该法建立的二次多项式模型的回归项极显著(P<0.0001),失拟项不显著(P>0.05),复相关系数R2为0.9412,模型选择合理.MAPAM最佳制备条件为:PAM相对分子质量为25万,PAM浓度为1.0%,反应物TGA和PAM(结构单元)物质的量比为3.2∶1,反应介质pH值为3.6,反应温度为25℃,反应时间为2.1h.该优化条件下制备的MAPAM对Cu(Ⅱ)最高去除率可达95.62%,与模型预测值(96.78%)接近,相对偏差仅为-1.20%,模型与实际拟合良好.
关键词:
响应面法
,
螯合絮凝剂
,
Cu(Ⅱ)
,
聚丙烯酰胺
,
巯基乙酸
张金艳
,
邱素艳
,
魏益华
,
袁丽娟
,
罗林广
人工晶体学报
以巯基乙酸为稳定剂,采用水热合成方法在140℃下合成水溶性CdTe量子点.研究了不同的反应时间、反应温度、反应前驱体pH值、前驱体的配比、前驱体的浓度对CdTe量子点光学性质的影响.采用TEM、XRD、紫外-可见吸收光谱和荧光光谱等技术对所制得产品进行表征.结果表明:当反应前驱体n(Cd2+∶TGA∶ HTe-)=1.0∶2.0∶0.1,C(Cd2+) =2.63×10-3mol/L,反应温度为140℃,pH值为12.0条件下,所制的CdTe量子点的荧光漆发射波长在512 ~559 nm范围内连续可调,量子产率较高(44.9%),半峰宽较窄达(FWHM=50 nm、EM=547.0 nm).与回流方法制备的水溶性CdTe量子点相比,利用水热反应釜的合成方法简单,CdTe量子点生长速度快,70 min就可生长到2.5 nm,粒径较均匀,荧光强度强,能够为免疫层析试纸条的组装提供性能较好的荧光标记物.
关键词:
CdTe
,
巯基乙酸
,
水热法