姜莉
,
张东生
,
张伟刚
,
开桂云
,
董孝义
量子电子学报
doi:10.3969/j.issn.1007-5461.2005.01.019
介绍了一种用一个均匀相位模板制作双波长布喇格光栅的方法;对这种方法制作的双波长布喇格光栅进行了理论分析,用矩阵分析法,对其进行了数值模拟.采用了移动曝光技术,通过调节所加应力的大小、光栅长度及曝光次数可以控制两个布喇格波长的间隔和反射率;写制了一个双波长光栅,两个透射峰均为19.5 dB,两个布喇格波长的间隔为0.78 nm.
关键词:
导波光学
,
布喇格光栅
,
双波长布喇格光栅
,
矩阵分析法
