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Si中30°部分位错和单空位相互作用的分子动力学模拟

王超营 , 孟庆元 , 王云涛

金属学报 doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2009.04.004

利用基于Stillinger-Weber(SW)势函数的分于动力学方法分析了Si中30°部分位错和单空位(V1)的相互作用.不同温度,剪应力作用下的计算结果表明,在温度恒定条件下,剪应力较小时,V1对位错有钉扎作用;当施加的剪应力达到临界剪应力时,位错脱离V1的钉扎继续运动,并且将V1遗留在晶体中;随温度的升高,临界剪应力近似线性下降.通过不含V1和含有V1的模型中位错芯位置的对比后发现,V1对滑过它的30°部分位错有明显的加速作用.

关键词: Si,30°部分位错 , 单空位 , 分子动力学 , 弯结

偏应力技术在非线性内耗中的应用

谭启

金属学报

本文研究了纵向偏应力和切向偏应力对反常内耗效应的影响.纵向偏应力总是削弱反常内耗效应,而切向偏应力因施加方向的不同引起不同的内耗效应.偏应力效应在经过适当热处理和冷加工的合金试样中才体现出来.研究表明反常内耗峰(_3,P_2和P_1峰)与倾斜的位错弯结链密切相关。偏应力对内耗的应用将有助于位错结构的研究。

关键词: 内耗 , bias stress , anomalous amplitude effect , dislocation , kink

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