吕辉
,
徐腾飞
,
刘佳
,
黎醒
,
蒋炳炎
电镀与涂饰
用Ansys有限元软件对微透镜阵列模芯电铸过程中的电场线分布进行模拟分析,研究了辅助阴极的尺寸对电流密度分布的影响,预测了电铸模芯厚度均匀性的变化趋势.分析发现,辅助阴极能提高电铸模芯厚度的均匀性,当框形辅助阴极与母板阴极的边长之比为1.5时,模芯表面的电流密度相对偏差由无辅助阴极时的82.8％降低至10.1％.通过电铸实验对模拟结果进行验证.结果表明,所得铸层厚度偏差可降低到18.89％,与模拟分析结果较为一致.电铸成型所得1 mm厚的微透镜阵列模芯厚度均匀,微观形貌与母板一致,可应用于微注塑成型工艺.
关键词:
微透镜阵列
,
微模芯
,
电铸
,
辅助阴极
,
数值仿真
,
厚度均匀性
,
电流密度分布
安凯
,
张文
,
冯亚云
,
凌志华
液晶与显示
doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2007.01.011
对液晶投影显示系统的偏振器件进行了研究,提出了一种新型偏光转换装置的设计方法.整个装置由两组微透镜阵列、一块光学性能良好的方解石晶体和一些半波片组成.微透镜阵列对入射光进行空间分割;方解石晶体进行起偏;半波片起相位延迟作用,从而实现从非偏振光到线偏振光的转换.用晶体偏振光学理论对该系统进行了理论推导,并用Zemax软件进行模拟.结果表明,系统的光利用率为86.1%,消光比优于10-3.该系统结构简单,性能稳定,但通光面积较小,适合与1.8 cm(0.7 in)以下的硅基液晶面板配合使用.
关键词:
硅基液晶投影显示
,
偏光转换系统
,
微透镜阵列
,
方解石
周雄图
,
陈恩果
,
姚剑敏
,
徐胜
,
曾祥耀
,
林金堂
,
张永爱
,
郭太良
液晶与显示
doi:10.3788/YJYXS20132806.0855
集成成像3D显示是一种利用微透镜阵列进行三维信息记录和重现的技术,针对集成成像3D显示过程中,微透镜之间间隙导致的杂散光引起干扰以及微透镜所成像之间的串扰导致的重构图像质量下降原因,采用针孔阵列的不透光部分来屏蔽杂散光,构建了针孔/微透镜组合阵列结构.根据集成成像原理,分析针孔/微透镜组合阵列的参数,并利用Tracepro光学软件对集成成像3D显示过程进行仿真,结果显示:在记录和重构阶段,针孔/微透镜组合阵列都能有效减少通过微透镜之间间隙的杂散光引起的与成像无关的亮斑,提高图像显示质量;当记录阶段和重构阶段均采用针孔/微透镜组合阵列时,得到的重构图像质量最好.
关键词:
光学设计
,
集成成像3D显示
,
针孔阵列
,
微透镜阵列
焦甜甜
,
王琼华
,
李大海
,
周磊
,
王芳宁
液晶与显示
doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2008.05.019
集成成像(II)是一种利用二维微透镜阵列进行三维信息的记录和重现的技术.介绍了集成成像技术的基本原理及其优缺点,提出了一种基于三维设计和动画制作软件3DsMAX的II技术,利用3DS MAX来实现II的三维信息的记录,利用显示器和菲涅尔微透镜阵列组成的实验装置实现II的三维信息的重现,解决了常规II技术存在的空间反转和串扰问题,从而研制出基于Il技术的原理性裸眼三维显示器.
关键词:
集成成像
,
微透镜阵列
,
3DSMAX
冯宗财
,
赵凌
,
王跃川
,
杜春雷
应用化学
doi:10.3969/j.issn.1000-0518.2006.07.014
由链末端含有-COOH、-OH和丙烯酰氧基的超支化聚合物、多官能丙烯酸酯和光引发剂三组分组成光致抗蚀剂. 在玻璃片上成膜后硬度可达到HB～H的铅笔硬度. 抗蚀剂膜用混合UV光源曝光和四甲基氢氧化铵(TMAH)水溶液显影可获得E0约为5.5×10-3 J/cm2的灵敏度和γ约为8的高反差. 其曝光的灵敏度和反差γ可由显影液和光引发剂调节. 并且显示出刻蚀深度随曝光能量呈现线性变化的关系. 此特性使得该类抗蚀剂可用于微光学元件加工,并可对其表面形状进行控制. 使用该类抗蚀剂,通过移动掩膜曝光制备了200 μm×200 μm的微透镜阵列.
关键词:
超支化聚合物
,
光致抗蚀剂
,
微透镜阵列
