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外加氩气流下脉冲激光烧蚀制备纳米硅晶粒成核生长动力学研究

邓泽超 , 王世俊 , 丁学成 , 褚立志 , 梁伟华 , 赵亚军 , 陈金忠 , 傅广生 , 王英龙

人工晶体学报

为研究纳米硅晶粒成核生长动力学过程,采用脉冲激光烧蚀(PLA)技术,在室温,50~200 Pa的氩气氛围中,通过引入垂直于烧蚀羽辉轴线的外加气流,在水平放置的衬底上沉积了一系列纳米Si晶薄膜.扫描电子显微镜( SEM)、拉曼(Raman)散射和X射线衍射(XRD)检测结果表明,未引入气流时,衬底上相同位置处晶粒尺寸随气体压强的增大逐渐减小;在距靶1 ~2cm范围内引入气流后,尺寸变化规律与未引入气流时相反.通过分析晶粒尺寸及其在衬底上的位置分布特点,结合流体力学模型和热动力学方程,分析得出在激光能量密度一定的条件下,环境气体压强、烧蚀粒子温度和密度共同影响着纳米晶粒的成核生长.

关键词: 脉冲激光烧蚀 , 硅纳米晶粒 , 外加气流 , 成核生长动力学

不同能量密度下脉冲激光烧蚀制备纳米Si晶粒成核生长动力学研究

邓泽超 , 罗青山 , 胡自强 , 丁学成 , 褚立志 , 梁伟华 , 陈金忠 , 傅广生 , 王英龙

人工晶体学报

在室温、10 Pa氩气环境下,采用脉冲激光烧蚀(PLA)技术,通过改变激光能量密度,在烧蚀点正下方、与烧蚀羽辉轴线平行放置的衬底上沉积制备了一系列纳米Si晶薄膜.采用SEM、Raman散射谱和XRD对纳米Si晶薄膜进行了表征.结果表明:沉积在衬底上的纳米Si晶粒分布在距靶一定的范围内,晶粒尺寸随与靶面距离的增加先增大后减小;随着激光能量密度的增加,晶粒在衬底上的沉积范围双向展宽,但沉积所得最大晶粒尺寸基本保持不变,只是沉积位置随激光能量密度的增加相应后移.结合流体力学模型、成核分区模型和热动力学方程,通过模拟激光烧蚀靶材的动力学过程,对纳米Si晶粒的成核生长动力学过程进行了研究.

关键词: 脉冲激光烧蚀 , Si纳米晶粒 , 能量密度 , 成核生长动力学

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