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马胜利 , 徐可为
兵器材料科学与工程 doi:10.3969/j.issn.1004-244X.2000.02.009
PCVD硬质膜是目前材料表面强化领域的研究热点.介绍了PCVD硬质膜的成膜理论、特点,讨论了等离子体引入化学气相沉积过程中所带来的一些变化,给出了现阶段PCVD成膜理论研究的现状、存在问题及发展趋势.
关键词: 等离子体化学气相沉积 , 硬质膜 , 成膜理论
