欢迎登录材料期刊网

材料期刊网

高级检索

  • 论文(7)
  • 图书()
  • 专利()
  • 新闻()

LEC <111> 磷化镓晶片缺陷的观察

陈坚邦 , 郑安生

稀有金属 doi:10.3969/j.issn.0258-7076.1999.05.005

使用STEM、SEM观察了磷化镓晶片在切割、研磨等工艺过程中引入的损伤. 切片损伤层深度约30.3 μm, 磨片损伤层深度小于20 μm. 还观察到一些磷化镓单晶锭局部表面布满麻坑, 认为这是单晶生长时, 磷挥发造成的. 同时离晶体表面100~150 μm范围内有镓凝聚物, 是磷挥发后造成镓过剩并聚集在一起形成的.

关键词: 扫描透射电镜(STEM) , 扫描电镜(SEM) , 磷化镓 , 缺陷

TEM观察砷化镓晶片损伤层

陈坚邦 , 钱嘉裕 , 杨钧

稀有金属 doi:10.3969/j.issn.0258-7076.1998.05.016

用透射电镜、扫描电镜对GaAs材料加工工艺中的表面损伤层进行了观察和检测. 结果切片损伤层深度≤50 μm、双面研磨损伤层深度≤15 μm、机械化学抛光损伤层深度 (腐蚀前) <1.2 μm. 分析了损伤结构及其引入的因素.

关键词: 砷化镓晶片 , 损伤层 , 透射电镜(TEM) , 扫描电镜(SEM)

低轮廓不饱和聚酯树脂的中低温固化形态

王侃 , 王继辉 , 薛忠民

材料研究学报 doi:10.3321/j.issn:1005-3093.2004.03.008

研究了加有低轮廓添加剂的不饱和聚酯树脂在中低温固化时的形态,结果表明:温度对加入聚醋酸乙烯酯类LPA试样的固化形态影响不大,而加入聚苯乙烯类LPA对试样的固化形态则有较大的影响.在固化过程中极性较大的LPA更有利于从UPR相中分离出来,形成有利于补偿收缩的两相交互连续的相态结构,而玻璃转化温度与UPR的差别大并且低于固化温度的LPA,使得固化试样形成微孔有更多的时间和更高的效率对于加入聚醋酸乙烯酯类LPA的试样,试样的固化形态随着LPA含量的增加发生两次明显的转变.对于具有较高分子量的LPA,只需要加入较低的含量就能使试样形成相互连续的两相结构,而加入聚苯乙烯类LPA的试样,固化的形态随着LPA含量的增加没有明显的改变.

关键词: 有机高分子材料 , 不饱和聚酯树脂(UPR) , 扫描电镜(SEM) , 形态研究 , 相分离 , 低轮廓添加剂(LPA)

碳源流量对碳纳米管厚膜形貌和结构的影响

曹章轶 , 孙卓 , 郭平生 , 陈奕卫

无机材料学报 doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2006.01.013

采用低压化学气相沉积(LPCVD)在镍片上制备了厚度在400~1000μm范围的碳纳米管(CNTs)薄膜,研究了碳源(乙炔)流量对碳纳米管薄膜形貌和结构的影响.随乙炔流量的增加,碳纳米管薄膜厚度和产量增大.电子显微镜和拉曼光谱研究结果表明,在乙炔流量为10sccm下制备的碳纳米管直径分布范围最小(10~100nm),石墨化程度最高,缺陷密度最小,晶形最完整.随着乙炔流量的增大(30~90sccm),碳纳米管的直径分布范围增大(10~300nm),石墨化程度降低,缺陷密度增大,非晶化程度增加.因此,通过碳源流量可以控制碳纳米管薄膜的形貌和结构.

关键词: 碳纳米管(CNTs) , 化学气相沉积(CVD) , 扫描电镜(SEM) , 透射电镜(TEM) , 拉曼光谱

膨胀石墨的形貌结构与表面功能基团的XPS研究

杨建国 , 吴承佩

材料科学与工程学报 doi:10.3969/j.issn.1673-2812.2007.02.034

膨胀石墨的孔结构和表面化学组成对其物化性能有着很大影响,利用扫描电镜(SEM)和X射线光电子能谱(XPS)对550~920℃制备的膨胀石墨形态结构和表面功能基团进行了表征,结果表明:在蠕虫状的膨胀石墨粒子表面和内部存在大量的网状孔洞,这些网络状孔洞是由10~50nm厚的石墨片叠合而成的平行塌陷片层构成;膨胀石墨表面化学组成以C、O元素为主,其它元素含量较低,其表面存在有-C=O、-C-O和-O-O-(过氧基团)等功能基团.

关键词: 膨胀石墨 , X射线光电子能谱(XPS) , 扫描电镜(SEM)

刻蚀时间对碳纳米管形貌的影响

席彩萍

材料开发与应用

采用等离子体增强化学气相沉积技术,以C2H2、H2和N2为反应气体,制备出碳纳米管薄膜.利用扫描电镜(SEM)和拉曼光谱仪对其进行表征,研究刻蚀时间对碳纳米管形貌的影响.结果表明:催化剂刻蚀时间对碳纳米管薄膜的生长起着重要作用,刻蚀时间为10 min时可获得定向性好、密度适中、杂质缺陷少的碳纳米管.

关键词: 碳纳米管 , 刻蚀时间 , 扫描电镜(SEM)

刻蚀压强对制备碳纳米管形貌的影响

席彩萍

材料开发与应用

采用等离子体增强化学气相沉积技术,以C2H2、H2和N2为反应气体,制备出碳纳米管薄膜,利用扫描电镜(SEM)对其进行表征.结果表明:催化剂刻蚀压强对碳纳米管薄膜的生长起着重要作用,获得定向性好、密度适中、杂质缺陷少的碳纳米管的最佳的刻蚀压强为200 Pa.

关键词: 碳纳米管 , 刻蚀压强 , 扫描电镜(SEM)

出版年份

刊物分类

相关作者

相关热词