沈奕
,
姚若河
功能材料
doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2013.21.021
采用室温磁控溅射的方法在玻璃衬底上沉积掺 Ti 氧化铟薄膜,并在真空中采用 XeCl 准分子激光进行退火,样品的光学、电学性能、相结构分别采用分光光度计、霍尔效应测试仪和 X 射线衍射仪进行测试。结果表明,功率为100~150mJ/cm2的准分子激光照射可以使薄膜由无定形态转变为结晶态,激活所掺杂的Ti原子,降低薄膜的电阻率；增大退火功率还可以进一步降低载流子浓度,提高薄膜的透过率。经150mJ/cm2准分子激光退火的掺Ti氧化铟薄膜,其电阻率为6.93×10-4Ω·cm,透过率达到了88.4%。
关键词:
掺Ti氧化铟
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室温沉积
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激光退火
