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直流热阴极CVD法中硼酸三甲酯流量对掺硼金刚石膜制备的影响

祁文涛 , 彭鸿雁 , 陈玉强 , 姜宏伟 , 王明磊 , 尹龙承

材料导报

采用直流热阴极CVD方法,以液态硼酸三甲酯为硼源,在P型(100)硅基片上制备了掺硼金刚石(BDD)膜.利用扫描电子显微镜(SEM)、激光拉曼光谱仪、X射线衍射仪(XRD)等方法对样品进行了表征,研究了其生长特性,并利用电榆运特性测试系统对其电阻率进行了测试.结果表明,随着硼酸三甲酯流量的增加,晶体的表面逐渐光滑平整、棱角清晰;掺硼金刚石膜的品质呈先上升后下降的趋势;电阻率呈先下降后达到平稳的趋势,最终达到约8.0×10-3Ω·cm.硼掺杂明显改变了金刚石晶体的组成结构.

关键词: 掺硼金刚石膜 , CVD , 直流热阴极

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