李洪涛
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蒋百灵
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陈迪春
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曹政
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蔡敏利
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苗启林
功能材料
采用闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术于不同本底真空度下制备了Cr/C镀层.利用TEM、划痕仪分析了不同真空度下镀层微观截面形貌与结合强度的变化.结果表明,随本底真空度的降低,Cr/C镀层中物理混合界面层和Cr金属打底层的厚度显著减小;镀层结合强度随本底真空度的降低显著下降,物理混合界面层、Cr金属打底层厚度的减小以及镀层表面孔洞等缺陷增多、致密度变差等共同导致了其结合强度的下降.
关键词:
本底真空度
,
物理混合界面层
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Cr金属打底层
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结合强度
刘旸
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张国同
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崔新军
表面技术
doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2015.05.019
目的：提高真空镀膜机镀膜时薄膜的抗激光能力，研究镀膜机箱体内本底真空度和残余气体对激光薄膜光学性能的影响程度。方法借用一台较高配置的真空镀膜机，为了方便定性和定量的研究，可预先有针对性地设定不同的本底真空度，同时配合不同的残余气体等各种情况，来制备激光薄膜。通过对各种激光薄膜的检测，分别研究不同的设定条件对制备激光薄膜的具体影响。结果油汽在分压强1.6×10-3 Pa时对激光薄膜的抗激光损伤阀值最高；水汽的分压强越大，对激光薄膜的抗激光损伤阀值最小；当氧汽分压达到1.5×10-2 Pa时，抗激光损伤阀值开始急剧变小；在压强小于2.0×10-4 Pa的范围内，薄膜的抗激光损伤阀值随本底真空度的增大而增大；压强大于5.0×10-5 Pa时，薄膜的抗激光损伤阀值逐渐减小。结论提高真空设备的本底真空度，降低真空系统中残余气体的数量、成分及含量，尤其是H2 O和O2是提高激光薄膜光学性能关键。
关键词:
激光薄膜
,
本底真空度
,
抗激光阀值
,
真空设备
鞠洪博
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贺盛
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陈彤
,
陈敏
,
郭丽萍
,
喻利花
,
许俊华
材料开发与应用
采用射频磁控溅射法在功率用半导体散热片Mo上制备了不同本底真空度的Ru薄膜,利用能谱仪、X射线衍射仪、纳米划痕仪及电化学工作站等仪器研究了本底真空度对Ru薄膜化学成分、微观结构、膜基结合力及耐蚀性能的影响.结果表明,随着本底真空度的降低,Ru薄膜中氧含量逐渐降低,当本底真空度为6.0×10-4 Pa时,薄膜中氧含量为0％(原子分数);当本底真空度为6.0×10-2pa时,薄膜两相共存,即hcp-Ru+fcc-RuO2,此时,薄膜中RuO2的相对质量分数约为13.7％;随着本底真空度的降低,薄膜中fcc-RuO2相对质量分数逐渐减少,当本底真空度为6.0 ×10-4 Pa时,薄膜中fcc-RuO2相消失,为hcp-Ru单一相结构;受RuO2相的影响,薄膜晶粒尺寸及膜基结合力随本底真空度的降低而逐渐增加.研究表明,在3.5％ NaCl溶液,本底真空度为6.0×10-4 Pa的Ru薄膜耐蚀性能优于Mo衬底.
关键词:
射频磁控溅射
,
Ru薄膜
,
本底真空度
,
耐蚀性能
霍红英
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邹敏
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马光强
,
常会
表面技术
采用直流磁控溅射方法在平板玻璃基体表面沉积AZO薄膜,研究了本底真空度对薄膜厚度、方块电阻以及在300～1100 nm波长范围内透过率的影响.结果表明:薄膜的方块电阻和透过率随本底真空度的提高而降低,厚度随本底真空度的提高而增加；本底真空度较低时,其变化对薄膜的厚度、方块电阻和透过率的影响较大,随着本底真空度的增加,影响程度逐渐降低.
关键词:
磁控溅射
,
AZO薄膜
,
本底真空度
