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MTS/H2体系CVD SiC的气相分析

卢翠英 , 成来飞 , 赵春年 , 张立同

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2010.00845

采用CG/MS定性定量分析了MTS/H2体系CVD SiC的气相组成,考察了沉积温度、总压和流量对气相组成的影响,从反应速率和分子浓度大小的角度出发,分析了MTS在H2中的分解步骤.主要结论如下:(1)检测到CH4、C2H6、C2H4、C3H6、C2H2、MTS、SiCl4和CH3SiHCl2物质,其中CH4和SiCl4的含量较高.(2)体系温度、总压和总流量对气相组成有显著影响,其影响规律与热力分析结果一致.(3)MTS主要以Si-C键断裂引发分解反应,经历与原反应气反应、中间物质和副产物生成等主要阶段,CH3→C2H6→C2H4→C2H2是生成烷烃化合物的主要路径.

关键词: GC/MS , 气相分析 , CVD SiC , MTS/H2

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