欢迎登录材料期刊网

材料期刊网

高级检索

  • 论文(1)
  • 图书()
  • 专利()
  • 新闻()

多晶硅/氧化硅/多晶硅非平面结构中Fowler-Nordheim隧穿及氧化层退化研究

董耀旗 , 孔蔚然

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2010.06.008

Fowler-Nordheim隧穿被广泛应用于EEPROM和闪存中的擦除操作.多晶硅到多晶硅的F-N隧穿具有较高的隧穿效率.本论文基于分栅闪存存储器的结构,对于多晶硅/隧穿氧化层/多晶硅非平面结构的F-N隧穿及其引起的氧化层退化进行了研究.相比于平面结构,非平面结构显示出更高的F-N隧穿效率,且隧穿效率还可通过降低氧化层厚度或者增加预热氧化处理的方法进一步提高.较低的F-N隧穿电流密度显示出较慢的隧穿氧化层退化速率.降低氧化层厚度或者增加热氧化处理也可减缓隧穿氧化层的退化.另外,论文还讨论了研究结果对于改善分栅闪存擦除特性以及耐久性的意义.

关键词: 氧化层退化 , F-N隧穿 , 闪存存储器

出版年份

刊物分类

相关作者

相关热词