张卫方
,
刘新灵
,
赵爱国
,
刘高远
,
陶春虎
材料热处理学报
doi:10.3969/j.issn.1009-6264.2003.02.014
采用XPS试验对Ti811钛合金在500℃～650℃下、50h的氧化行为进行了分析,利用扫描俄歇微探针对氧化后试样表面的氧影响区进行了研究,并对其影响机制进行了探讨.结果表明,温度为550℃时,试样表面生成的氧化膜较致密;温度在500℃～600℃之间时,试样表面氧化膜的厚度随温度的增加的幅度较小,温度高于600℃后迅速增加;而氧缓慢扩散区厚度则在500℃～650℃之间随温度的升高持续增加.
关键词:
钛合金
,
氧化行为
,
氧影响区
