刘野
,
黄美东
,
路少怀
,
吴功航
,
李洪玉
电镀与精饰
doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2013.05.009
采用电弧离子镀的方法,在硅片上制备TiN仿金装饰膜层,主要研究氮气分压和基体偏压两个工艺参数对TiN薄膜色泽的影响.结果表明,氮气压强对TiN薄膜的色泽有明显的影响和控制作用.随着氮气分压的增大,薄膜的色泽由浅黄色向红棕色变化.实验发现,基体偏压对膜层的色泽也有一定的影响,当氮气分压一定时,施加偏压所得TiN薄膜比不施加的颜色更浅.可见,通过调节基体偏压和氮气流量,可以获得所需颜色的TiN薄膜.
关键词:
多弧离子镀
,
TiN薄膜
,
色泽
,
氮气分压
,
基体偏压
郭景杰
材料工程
doi:10.3969/j.issn.1001-4381.1999.11.008
建立了氮元素溶解到Ti153合金熔体中的热力学模型,并以此计算了氮在Ti153合金熔体中的溶解度,分析了ISM熔炼过程中影响氮元素在Ti153合金熔体中溶解的几个因素.结果表明,熔体温度对Ti153合金熔体中氮的溶解度影响较大,而熔化室内氮气分压是决定Ti153合金熔体中氮溶解度的主要因素,需要合理控制.并提出了利用多次抽真空反充氩气以降低熔化室内氮气分压的方法,来进一步降低Ti153合金熔体中的氮含量.
关键词:
Ti153合金
,
ISM
,
溶解度
,
氮气分压
,
热力学
顾广瑞
,
吴宝嘉
,
李全军
,
金哲
,
盖同祥
,
赵永年
液晶与显示
doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2004.02.010
利用射频磁控溅射方法,真空室中充入高纯N2(99.99 %)和高纯Ar(99.99 %)的混合气体,在n型(100)Si基底上沉积了氮化硼(BN)薄膜.红外光谱分析表明,BN薄膜结构为六角BN(h-BN)相(1 380 cm-1和780 cm-1).在超高真空(<10-7 Pa)系统中测量了BN薄膜的场发射特性,发现沉积时氮气分压的变化对BN薄膜的场发射特性有很大影响.随着氮气分压的增加,阈值电场逐渐升高,这是由于表面粗糙度的变化造成的.充入10 % N2情况下沉积的BN薄膜样品的场发射特性较好,开启电场为9 V/μm,当电场升高到24 V/μm,场发射电流为320 μA/cm2.所有样品的场发射FN曲线均近似为直线,表明电子是通过隧道效应穿透BN薄膜表面势垒发射到真空的.
关键词:
场发射
,
BN薄膜
,
氮气分压
