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基于高性能沉积层的精密电铸技术的研究进展

雷卫宁 , 朱荻 , 张文峰 , 朱增伟

兵器材料科学与工程 doi:10.3969/j.issn.1004-244X.2005.06.017

提高沉积层性能是精密电铸技术中的一个研究热点.通过细化沉积层晶粒或采用合金和复合电铸强化方式是获取高性能沉积层的有效途径.在综述了沉积层性能强化机理的基础上,对其目前的研究现状与最新应用进行了评述,并提出了今后研究重点关注的几点问题.

关键词: 精密电铸 , 沉积层 , 综述 , 纳米晶粒 , 性能

超声波对电化学沉积技术影响的研究进展

葛鲁波 , 邹锋

材料保护

从电极过程液相传质特性、电沉积行为特性和电沉积工艺特性3方面综述了超声波对电沉积过程的影响:在一定条件下,超声波能加速扩散传质过程,减薄扩散层,提高阴极极限电流密度和电沉积速度,改善沉积层的表面形貌和综合性能,并且改变微观织构及粒子与合金的含量.当前,开展的超声电化学沉积研究主要集中于宏观沉积层和低深宽比微米级尺度结构层面,今后高深宽比微米级特征尺度结构及纳米尺度结构的实现乃至优质制造或将成为新的研究热点.

关键词: 电化学沉积 , 超声波 , 沉积层 , 表面形貌 , 结构 , 综合性能

MEMS微器件电沉积层均匀性的研究进展

王星星 , 雷卫宁 , 刘维桥 , 姜博 , 邹旻

稀有金属材料与工程

有效地改善沉积层厚度均匀性是电化学沉积技术应用的关键,简述了微电铸原理,综述了国内外微器件沉积层均匀性的最新研究进展,包括优化工艺参数、脉冲电流与换向脉冲电流、改善传质条件、辅助阴极、阴极屏蔽、阳极特性及数值模拟仿真技术改善沉积层均匀性的研究报道,详细介绍了超临界CO2电化学沉积新方法及其优点,并展望了今后的研究重点及发展方向.

关键词: 微器件 , 电铸 , 沉积层 , 均匀性 , 超临界CO2

微滤膜过滤过程中比阻的研究进展

刘德忠 , 王湛

膜科学与技术 doi:10.3969/j.issn.1007-8924.2005.05.014

压力驱动膜过程中的微滤是分离均相混合物的化工单元操作,随着过程的进行,将在膜表面上形成沉积层,过滤速率将随之下降.沉积层阻力的大小是衡量过滤难易程度的重要参数.比阻是确定阻力大小的基础.分别从微滤过程中比阻的分类、影响因素、定量测定三个方面作了简要介绍.

关键词: , 微滤 , 沉积层 , 可压缩 , 比阻

同基合金非磁控电弧离子镀镀层结构特征

侯文义 , 赵兴国 , 孙亦蕙 , 袁庆龙 , 梁伟

材料热处理学报 doi:10.3969/j.issn.1009-6264.2005.03.020

对QAl9-4/Cu及1Cr18Ni9Ti/45钢等两类同基合金的非磁控电弧离子镀镀层进行的扫描电镜分析结果表明,由于弧流携带的液滴较多,沉积层组织呈细密的片层状,层厚2~3μm.X射线衍射谱确认,这两类同基合金离子镀沉积层分别由α(Cu)+CuAl2+CuAl及γ+α组成,与焊接或铸态组织相当.两种镀层都有一定厚度的过渡层,从而使镀层-基材呈类冶金结合.施镀时间较长时,在沉积层增厚的同时,过渡层厚度也有所增长.这使得本项技术的实际应用领域可大大拓宽,不仅可进行厚层改性,而且可用于微磨损精密零件的修复.

关键词: 离子镀 , 沉积层 , 过渡层

Ni-Mo合金电沉积层的X-射线光电子能谱研究

黎向锋 , 左敦稳 , 王珉

电镀与精饰 doi:10.3969/j.issn.1001-3849.1999.04.002

利用X-射线光电子能谱对Ni-Mo沉积层表层中Ni、Mo的存在形式进行了分析,并对其表面进行了Ar+离子刻蚀深度分析.结果表明:Ar+离子未溅射时,沉积层中的Ni和Mo分别以Ni(OH)2和MoO3(或MoO2-4)形式存在:Ar+离子溅射3 min后,沉积层中的Ni和Mo分别以NiO和MoO2形式存在;Ar+离子溅射15 min后,沉积层中的Ni和Mo分别以单质Ni和单质Mo形式存在.

关键词: X-射线光电子能谱 , 沉积层 , Ni-Mo

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