王灿明
,
孙宏飞
材料保护
等离子喷涂粉末的粒度影响涂层组织结构与性能.选用4种不同粒度的Al2O3-13%TiO2(AT13)粉末等离子喷涂陶瓷涂层,研究了喷涂粉末粒度对涂层组织结构、孔隙率、显微硬度和沉积效率的影响.结果表明:采用较细的喷涂粉末制备的AT13涂层致密、均匀,孔隙率低;随着喷涂粉末粒度增大,涂层的孔隙率增加,显微硬度降低,沉积效率先增后减;采用粒度为38～44μm的粉末喷涂涂层时沉积效率最高,达到51%,涂层组织也较致密,这是等离子喷涂AT13陶瓷层较理想的粒度.
关键词:
等离子喷涂
,
陶瓷涂层
,
组织结构
,
孔隙率
,
显微硬度
,
沉积效率
李洪宾
,
江轩
,
王欣平
稀有金属
doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2009.03.030
磁控溅射中高沉积速率有利于获得高纯度薄膜,节省镀膜时间;高沉积效率的靶材可制备出更多数月的晶圆.通过建立平面靶的溅射模型研究了Al-Cu合金靶的品粒取向和品粒尺寸对溅射速率、沉积速率和沉积效率的影响.实验结果显示,溅射速率与靶材的原子密排度成正比关系,靶材的原子密排度受品粒取向和晶粒尺寸的影响,有特定的变化范围,因此溅射速率也只在一个范围内变化.沉积速率和沉积效率受靶材表面窄间内原子密排方向分布的影响,原子密排方向分布则由靶材的晶粒取向和晶粒尺寸决定.
关键词:
铝铜合金靶材
,
微观结构
,
沉积速率
,
沉积效率
邱善广
,
李相波
,
王佳
,
程旭东
,
柳敏志
材料开发与应用
低压冷喷涂技术是一种不同于高压冷喷涂技术的新型喷涂工艺.本文以体积比为3∶7的氧化铝粉末和铝粉的混合粉末为原料,以压缩空气为工作气体,利用低压冷喷涂设备在Q235钢基体上制备Al涂层,研究了温度、喷距、送粉速率和喷嘴横向移动速度等工艺参数对涂层沉积效率的影响.采用光学显微镜、扫描电镜,研究了涂层的微观结构和沉积特性.实验结果表明:在工作气体压力保持0.6 MPa不变的情况下,温度400℃、喷距25mm、送粉速率为30-40 g/min、喷嘴横向移动速度4.0m/min时,铝涂层沉积效率最佳；同时Al2O3陶瓷相的加入有利于涂层的沉积.
关键词:
低压冷喷涂
,
Al-Al2O3涂层
,
沉积效率
石崇
,
龙宇飞
,
刘宇
,
王凯歌
,
李相波
,
邢路阔
,
黄国胜
,
许立坤
材料开发与应用
在常温环境下,以Al2O3和Al(体积比3∶7)的混合粉末为原料,以压缩空气为工作气体,利用低压冷喷涂设备,在Q235碳钢表面制备铝涂层,讨论了温度、送粉速率及喷距对涂层沉积效率的影响、同时研究了工艺参数对涂层的显微硬度及结合强度的影响,得出最佳优化工艺参数为工艺参数在温度400 ～500℃、送粉速率24～35 g/min、喷距20 ～ 30 mm.
关键词:
低压冷喷涂
,
沉积效率
,
工艺参数
张鑫
,
吴晓蕾
,
曹石巍
,
王洋
,
秦芝
原子核物理评论
doi:10.11804/NuclPhysRev.32.03.310
采用分子镀方法研究了异丙醇-硝酸体系中两极间距离、电流密度、加入HNO3的量和分子镀持续时间对镀层性能和电沉积效率的影响,确定了制备Tb,Dy和Ho靶的最佳工艺条件.同时也探索了在异丁醇-硝酸体系中,分子镀持续时间和电流密度对Tb靶电沉积效率的影响.因Tb,Dy和Ho三种元素化学性质相近,故采用了相同的工艺条件:两极间最优距离为15 mm,电流密度为5.7 mA/cm2,加入0.1mol/L HNO3 400 μL,分子镀时间为1h.用分光光度法测得各靶的沉积效率均高于85％;利用扫描电子显微镜(SEM)对部分靶的表面形貌分析后发现靶面结构均匀致密;利用能谱仪(EDS)对靶子进行了定性和半定量分析;利用红外光谱法对靶膜化学成分进行了分析,发现靶膜成分结构复杂,不是由一种化合物组成.目前制得的Tb靶和Ho靶已用于中国科学院近代物理研究所加速器SFC低能核化学终端上,利用19F束流轰击,分别产生了W和Os的短寿命同位素,从而成功完成了Sg(Z=106)和Hs(Z=108)的模型试验.
关键词:
分子镀
,
镧系元素靶
,
沉积效率
