赵秋月
,
张廷安
,
曹晓畅
,
蒋孝丽
材料与冶金学报
doi:10.3969/j.issn.1671-6620.2006.03.019
以NaCl溶液为示踪剂,采用脉冲示踪法考察了搅拌转速、流量及液位对带机械搅拌装置的管式反应器内停留时间分布(RTD)曲线的影响.用Peclet操作准数表征轴向扩散特性.结果表明:增加搅拌装置后,反应器内的流动型态仍接近活塞流;随流量的减小和液位的升高,流体流动愈向活塞流靠近,即减小流量或者升高水位有利于减小返混;当搅拌转速超过100 r/min时,搅拌转速对停留时间分布的影响不大.
关键词:
管式反应器
,
停留时间分布
,
活塞流
,
轴向扩散
