周爱萍
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刘汉法
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张化福
人工晶体学报
利用直流磁控溅射法在玻璃衬底上制备了铝铬共掺杂氧化锌(ZACO)透明导电薄膜.通过X射线衍射(XRD)和扫描电镜(SEM)等表征方法对薄膜特性进行测试分析,研究了溅射压强和溅射功率对薄膜生长速率以及光电特性的影响.结果表明,随着溅射气压(1.5～4.5 Pa)的增大,薄膜沿c轴方向的结晶质量提高,薄膜表面更加致密,晶粒大小更加均匀.薄膜生长率随压强的增大而减小,但电阻率先减小后增大.当溅射功率由80 W增大到100 W时,薄膜的生长速率增大,电阻率减小.溅射压强为3.5 Pa,溅射功率为100 W时,薄膜的电阻率达到最小值2.574×10-3 Ω·cm.紫外-可见透射光谱表明,所有薄膜在可见光区的透过率均超过89.9%.
关键词:
ZACO薄膜
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溅射压强
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溅射功率
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透明导电薄膜
王华
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燕红
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许积文
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江民红
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杨玲
人工晶体学报
以自制Mg0.2Zn0.8O∶Al陶瓷为靶材,采用室温溅射后续退火磁控溅射工艺制备了Mg0.2Zn0.8O∶Al紫外透明导电薄膜.研究了溅射压强和退火气氛对Mg0.2Zn0.8O∶Al薄膜结构和光电性能的影响.结果表明:溅射氩气压强不影响薄膜的相结构,但对薄膜的取向生长和结晶质量有一定影响；薄膜的方块电阻随溅射压强的增加先大幅减小后有所增大,溅射气压为2.0 Pa时,薄膜的方块电阻最低；不同溅射气压下制备薄膜的透光范围均已扩展到了紫外区域,而且具有85％以上的高透射率,但溅射气压对薄膜的带隙宽度和透光率没有明显影响；室温下溅射制备的薄膜经真空退火处理后其导电性能显著提高,但在空气中退火处理后其导电性能反而有所下降.
关键词:
Mg0.2Zn0.8O∶Al
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紫外透明导电薄膜
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磁控溅射
,
溅射压强
,
退火气氛
,
光电性能
缪存星
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赵占霞
,
栗敏
,
徐飞
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马忠权
人工晶体学报
利用射频磁控溅射方法,采用Sc_2O_3掺杂(质量百分比2%)ZnO为靶材在石英玻璃上制备透明导电ZnO:Sc(SZO)薄膜.用X射线衍射仪、分光光度计及霍尔测试仪等对样品进行表征,分析了沉积压强从0.3 Pa到2.0 Pa的变化对SZO薄膜的微结构及光学特性的影响.XRD研究结果表明所有样品都是六角密堆积结构,而且溅射压强对SZO薄膜的微结构有着显著的影响.所有SZO薄膜的透过率在可见光区域均大于85%,近紫外区域由于吸收,透射率大大降低.
关键词:
射频磁控溅射
,
SZO薄膜
,
溅射压强
,
透明导电氧化物
刘汉法
,
袁玉珍
,
张化福
,
袁长坤
人工晶体学报
利用直流磁控溅射法在室温水冷玻璃衬底上制备出了高质量的掺钛氧化锌透明导电薄膜(ZnO: Ti).研究了溅射压强对ZnO: Ti薄膜结构、形貌和光电性能的影响.研究结果表明,溅射压强对ZnO: Ti 薄膜的结构和电阻率有显著影响.X射线衍射(XRD)表明,ZnO: Ti 薄膜为六角纤锌矿结构的多晶薄膜,且具有c轴择优取向.在溅射压强为5.0 Pa时,实验获得的ZnO: Ti薄膜电阻率最小值为1.084 ×10~(-4) Ω· cm.实验制备的ZnO: Ti 薄膜具有良好的附着性能,可见光区平均透过率超过91%.ZnO: Ti薄膜可以用作薄膜太阳能电池和液晶显示器的透明电极.
关键词:
ZnO:Ti薄膜
,
透明导电薄膜
,
溅射压强
,
磁控溅射
史晓菲
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郭美霞
,
刘汉法
,
高金霞
液晶与显示
doi:10.3788/YJYXS20112601.0054
利用直流磁控溅射工艺在玻璃衬底上制备出了透过率高、电阻率较低的钛镓共掺杂氧化锌透明导电薄膜(TGZO).研究了溅射压强对TGZO薄膜结构、形貌和光电性能的影响.研究结果表明,溅射压强对TGZO薄膜的结构和电阻率有重要影响.X射线衍射(XRD)表明,TGZO薄膜为具有c轴择优取向的六角纤锌矿结构多晶薄膜.薄膜的电阻率具有随着溅射压强的增大先减小,后增大的规律,在溅射压强虽为11 Pa时,实验获得的TGZO薄膜晶格畸变最小,电阻率具有最小值1.48×10-4Ω·cm,透过率具有最大值94.3%.实验制备的TGZO薄膜附着性能良好,在400～760 nm波长范围内的平均透过率都高于90%.
关键词:
TGZO薄膜
,
透明导电薄膜
,
溅射压强
,
磁控溅射
郭胜利
,
胡跃辉
,
胡克艳
,
陈义川
,
范建彬
,
徐承章
,
童帆
人工晶体学报
在不同溅射压强下,通过射频(RF)磁控溅射在石英玻璃衬底上沉积得到W掺杂ZnO薄膜(WZO).对样品的结晶性能,表面形貌和光学性能进行测试分析,结果表明:在适当溅射压强下,薄膜具有良好的结晶性和光学性能.随着溅射压强的增加,薄膜的结晶性先变好后变差,晶粒尺寸先增大后减小,在1.0 Pa时薄膜的结晶性最好,且晶粒尺寸最大,约为32 nm;所有WZO薄膜样品的平均透光率超过80％;光致发光主要由本征发光和缺陷引起的蓝光发光组成,在1.0Pa时薄膜还有明显的Zn;缺陷,在1.2Pa时薄膜有明显的Oi缺陷.
关键词:
溅射压强
,
ZnO薄膜
,
W掺杂
,
光致发光
李玲
,
薛涛
,
宋忠孝
,
刘纯亮
,
马飞
稀有金属
详细地研究了溅射压强对a-IGZO薄膜的微结构和电学特性产生的影响.AFM分析表明,薄膜的表面粗糙度随溅射压强的增加而增大.XPS分析表明薄膜中氧空位含量随溅射压强的增加而减少.增加表面粗糙度和减少氧空位对a-IGZO薄膜晶体管的特性有着决定性的作用.当溅射压强保持在0.6 Pa时,得到的薄膜晶体管的特性最佳,电子的饱和迁移率和门限电压分别是3.32 cm2/(V·s)和24.6 V.溅射压强是磁控溅射制备IGZO薄膜及其晶体管的关键影响因素.
关键词:
a-IGZO
,
薄膜晶体管
,
溅射压强
,
氧空位
