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掺氮类金刚石薄膜激光退火的Raman光谱研究

居建华 , 夏义本 , 张伟丽 , 王林军 , 史伟民 , 黄志明 , 李志锋 , 郑国珍 , 汤定元

功能材料

采用功率密度分别为300、750和1500W/mm2的氩离子激光器,对由射频等离子化学气相沉积(RF-CVD)法制备的掺氮类金刚石薄膜进行了激光退火处理.并用傅立叶红外吸收光谱和显微Raman等手段,对所得样品进行了研究.结果表明:C-N键比C-H键更为稳定,一方面氮原子的引入制约了C-H键的生成,在激光退火中减少了因C-H键分解而引起薄膜的石墨化;另一方面生成的C-N键不易受热分解;因此随着氮含量的增加,薄膜中C-N成分增加,从而提高了类金刚石薄膜的热稳定性.

关键词: 类金刚石薄膜 , 激光退火 , 拉曼光谱 , 热稳定性

掺氮类金刚石薄膜激光退火的Raman光谱分析

居建华 , 夏义本 , 张伟丽 , 王林军 , 史伟民 , 黄志明 , 李志锋 , 郑国珍 , 汤定元

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2001.03.010

采用显微拉曼光谱研究了掺氮的类金刚石薄膜,该薄膜分别经过能量密度为300,750和 1500W/mm2氩离子激光的退火处理。分析结果表明氮原子在类金刚石薄膜中形成了C-N键制 约了C-H键的形成。由于C-N键的键能比C-H键的键能大得多,因此在激光退火过程中C-N 键不易分解。所以随着氮含量的增加,类金刚石薄膜的激光退火后石墨化程度明显降低,具有比较 好的热稳定性。而非掺氮的类金刚石薄膜由于C-H键含量比较高,因此激光退火后容易石墨化。

关键词: 类金刚石薄膜 , 激光退火 , 拉曼光谱 , 热稳定性

激光退火对Inconel 718微观组织和硬度的影响

刘六法 , 卢晨 , 翟春泉 , 丁文江 ,

稀有金属材料与工程

研究激光退火对Inconel 718时效合金的显微组织和硬度的影响.一台2.5 kW的CO2激光机被用来照射试样的表面.在激光能作用下,试样表面层被加热后空冷.通过控制激光工艺参数,在表面不发生熔化的前提下,能够使一定厚度表面层内的硬度降低到标准退火合金的水平,而不影响试样内部母材的硬度.显微组织观察显示表面层的基体强化相(γ"和γ')在激光照射过程中被固溶,而其它二次相没有变化.γ"和γ'的固溶被确定是表面层硬度下降的原因.在其它试验条件不变时,确立了退火层生成时由激光散焦距离和扫描速度描述的工艺参数范围.

关键词: 激光退火 , Inconel 718 , 激光 , 镍基合金 , 表面热处理

利用二次谐波产生研究Al2O3/Al(111)表面的动力学变化

张杰 , 王其申 , 何克祥

量子电子学报 doi:10.3969/j.issn.1007-5461.2006.04.016

主要介绍了当激光入射到单晶金属Al2O3/Al(111)表面时将发生二次谐波产生(SHG)现象的实验装置和实验方法,利用该装置可以研究SHG和从Al2O3/Al(111)表面反射的SHG在空间各向异性的变化情况,从而可以探测Al2O3/Al(111)表面结构对称性.实验中发现,当脉冲激光功率在2×106 W/cm2~9.6×106 W/cm2范围内变化时,没有检测到SHG信号的各向异性变化;当使用P-极化泵浦激光时,发现Al2O3/Al(111)样品绕法线旋转360度时,P-极化的SHG信号在空间三个方向上呈现最大值相等;当使用脉冲强度为12×106 W/cm2的1064 nm P-极化泵浦激光时,Al2O3/Al(111)表面被损坏,损坏后的表面其SHG信号并不呈现对称的各向异性变化,当使用脉冲强度为11×106W/cm2的1064 nm P-极化泵浦激光时产生表面退火现象,从退火表面所产生的反射532 nm P-极化SHG信号中发现,SHG信号呈现衰减的各向异性成分.

关键词: 非线性光学 , 二次谐波产生 , 激光退火 , 单晶金属

大能量高功率准分子激光的应用及关键技术

赵家敏 , 游利兵 , 余吟山 , 方晓东

量子电子学报 doi:10.3969/j.issn.1007-5461.2013.06.009

实用型大能量高功率准分子激光器广泛地应用于材料的加工及表面处理,介绍了其在液晶平板显示行业、太阳能光伏行业、半导体行业及汽车制造业的应用.分析了大能量高功率准分子激光器的关键技术,如大面积均匀放电技术,预电离技术,高压快脉冲激励技术以及为了得到更大的脉冲能量及功率输出而采用的双腔同步技术.

关键词: 激光技术 , 准分子激光 , 大能量 , 高功率 , 磁脉冲压缩 , 激光退火

激光退火工艺对化学沉积Ni-Mo-P镀层组织及硬度的影响

姜魁经 , 刘宏 , 吕媛媛 , 王朋

表面技术 doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2016.10.004

目的 研究两种激光退火工艺(线光斑无搭接扫描、圆光斑搭接扫描)对非晶态结构的Ni-4.6Mo-12.4P镀层晶化组织特征及硬度的影响.方法 在Q235钢基体上化学沉积Ni-Mo-P镀层,然后用两种激光工艺对其进行热处理.通过XRD测试并结合Jade软件定量分析镀层晶化程度、结晶相质量分数及其晶粒尺寸,利用SEM/EDS确定镀层的成分及表面形貌,采用纳米压痕技术对镀层进行硬度测试,最后对两种激光工艺进行对比.结果 Ni-Mo-P镀层在线光斑扫描速度低于12mm/s、圆光斑扫描速度低于10 mm/s时,发生Ni3P晶化反应,同时伴有Ni-Mo固溶体形成.Ni3P相的晶粒尺寸大于Ni/Ni-Mo相尺寸,但扫描速度为6mm/s时,Ni/Ni-Mo相尺寸大于Ni3P相尺寸.扫描速度相同时,线光斑扫描镀层比圆光斑扫描镀层获得更高的晶化程度和Ni3P质量分数,而线光斑扫描的Ni3P相尺寸小于圆光斑扫描的尺寸.扫描速度为6~10 mrn/s时,除扫描速度10 mm/s外,线光斑扫描镀层的硬度较高.结论 能量密度高的线光斑无搭接扫描比能量密度低的圆光斑搭接扫描更有利于Ni3P相的析出,而圆光斑搭接扫描易于Ni3P相尺寸的长大.镀层的硬度主要受Ni3P相的尺寸及其质量分数的影响.

关键词: 激光退火 , 线光斑 , 圆光斑 , 化学沉积Ni-Mo-P镀层 , 显微组织 , 硬度

脉冲激光制备硅基超薄PtSi薄膜

李美成 , 杨建平 , 王菁 , 陈学康 , 赵连城

功能材料

用脉冲激光沉积制备了纳米级Pt/Si异质层,对脉冲激光退火形成超薄PtSi薄膜进行了研究.对于Pt、Si互扩散反应形成Pt2Si和PtSi的过程利用XPS进行了测试分析,通过XPS和AFM等分析测试手段对不同参数激光退火形成的PtSi薄膜的结构特性进行观测.我们获得了均匀的、超薄连续的PtSi层且具有平滑的PtSi/Si界面.

关键词: 脉冲激光沉积(PLD) , 激光退火 , 纳米薄膜

激光退火实现非晶Si晶化的成核势垒研究

邓泽超 , 褚立志 , 丁学成 , 梁伟华 , 傅广生 , 王英龙

人工晶体学报

采用脉冲激光烧蚀技术,在真空条件下沉积了一系列非晶Si薄膜,并对薄膜样品进行不同能量密度的激光退火处理.通过扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、Raman散射仪(Raman)等手段对退火后的薄膜进行形貌、晶态成分表征,确定了非晶Si薄膜晶化的激光能量密度阈值(85 mJ/cm2).结合激光晶化机理进行定量计算.结果显示:形成一个18 nm的Si晶粒所需要的能量,即成核势垒大小约为1.4×10-9 mJ.

关键词: 脉冲激光烧蚀 , 激光退火 , 成核势垒

采用准分子激光退火的室温沉积ITiO薄膜的性能研究

沈奕 , 姚若河

功能材料 doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2013.21.021

采用室温磁控溅射的方法在玻璃衬底上沉积掺 Ti 氧化铟薄膜,并在真空中采用 XeCl 准分子激光进行退火,样品的光学、电学性能、相结构分别采用分光光度计、霍尔效应测试仪和 X 射线衍射仪进行测试。结果表明,功率为100~150mJ/cm2的准分子激光照射可以使薄膜由无定形态转变为结晶态,激活所掺杂的Ti原子,降低薄膜的电阻率;增大退火功率还可以进一步降低载流子浓度,提高薄膜的透过率。经150mJ/cm2准分子激光退火的掺Ti氧化铟薄膜,其电阻率为6.93×10-4Ω·cm,透过率达到了88.4%。

关键词: 掺Ti氧化铟 , 室温沉积 , 激光退火

激光能量对碲镉汞注入样品退火效果的影响

张燕 , 李向阳 , 方家熊

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2000.04.036

利用脉冲YAG激光器对砷注入长波碲镉汞样品进行激光退火,分析不同能量密度的激光光束退火所引起的样品表面电学性质的变化.实验表明,激光能量密度越大,激光退火的效果越明显.我们认为要达到理想退火效果,样品表面一薄层需处于近熔化状态,以得到晶格结构的重新组织.

关键词: 碲镉汞 , 激光退火 , 迁移率谱

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