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电流密度对TC4钛合金表面熔盐电解渗硼的影响

冯策 , 唐国章 , 王心悦 , 王雁利 , 杨海丽

钢铁钒钛 doi:10.7513/j.issn.1004-7638.2016.03.009

以TC4钛合金为基体进行熔盐电解渗硼,利用辉光放电光谱仪(GDOES)、扫描电镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)和显微硬度计研究电流密度对渗硼层厚度、成分、组织、相结构及硬度的影响.结果表明:电流密度在50~90 mA/cm2时,渗硼层晶粒随电流密度的增加由粗大变得细小,渗硼层厚度先增大后减小,电流密度为60 mA/cm2时渗硼层厚度最大.渗硼层不含Al,而V则易固溶于硼化物中.渗硼层主要由TiB和TiB2组成,在(111)晶面择优生长.渗硼层的显微硬度相对基体硬度提高了5倍.

关键词: TC4钛合金 , 熔盐电解渗硼 , 电流密度

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