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TA4电化学抛光和阳极氧化处理表面生物相容性的比较

比较了TA4纯钛材电化学抛光表面和阳极氧化表面的形貌、抗腐蚀性能、微动摩擦磨损性能和生物活性.结果表明,与阳极氧化表面相比,电化学抛光表面具有较多纳米尺度孔穴(孔穴总数较低),较低的表面粗糙度(低约一个数量级),较低的抗腐蚀性能(后者的腐蚀速率比前者的稍大),较低的摩擦系数(0.134vs.0.286),较差的耐磨性能,以及较高的生物活性(模拟体液中Ca-P层的生长速率).

关键词: TA4 , 电化学抛光 , 阳极氧化 , 表面形貌 , 抗腐蚀性能 , 微动摩擦磨损性能 , 生物活性

AAO模板制备中高纯铝电化学抛光工艺的研究

冯晋阳 , 吴贝 , 赵修建

电镀与涂饰 doi:10.3969/j.issn.1004-227X.2007.04.011

研究了高纯铝片在硫酸-磷酸-乙二醇体系中的电化学抛光工艺.确定了电化学抛光体系的配方.探讨了阳极电流密度、抛光温度、抛光时间和搅拌方式对抛光质量的影响.获得了最佳抛光工艺参数:Ja=25 A/dm2,θ=85～93 ℃,t=10～15 min,机械搅拌.新的环保型电化学抛光体系为制备优良的AAO模板奠定了基础.

关键词: 高纯铝 , 电化学抛光 , AAO模板 , 硫酸-磷酸-乙二醇体系

国内铝制品无铬酸电化学抛光工艺开发现状

陈祖秋

材料保护 doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2001.03.010

传统的铝制品酸性电化学抛光溶液含有严重污染环境的铬酸。综述了80年代以来，我国开发无铬酸电化学抛光工艺的现状和研究成果。

关键词: 铝制品 , 无铬酸 , 电化学抛光 , 工艺成果

p-Si薄膜在氢氟酸溶液中的电化学抛光

胡飞 , 王晓丹 , 李小红 , 胡跃辉

材料热处理学报

p-Si薄膜在氢氟酸溶液中的电化学抛光是通过阳极溶解降低薄膜表面粗糙度.本文用线性扫描研究了在不同的氢氟酸浓度下的电化学行为,发现随氢氟酸溶液浓度的增加阳极溶解速率也随之增加.当氢氟酸浓度为4％及6％时,可得到平整的表面.电化学抛光技术为制备光亮硅面提供了一种简单可行的方法.

关键词: 电化学抛光 , p-Si薄膜 , 阳极溶解 , 微细加工

电化学抛光工艺的研究及应用

韦瑶 , 杜高昌 , 蓝伟强

表面技术 doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2001.01.007

报导了不锈钢电化学抛光工艺研究及电化学抛光工艺应用于不锈钢管道、管件的情况.

关键词: 电化学抛光 , 表面处理 , 不锈钢管道 , 管件

铝合金碱性电化学抛光新工艺

胡拥军 , 秦毅红

材料保护 doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2005.10.020

为了克服碱性Brytal法抛光铝材的缺点,在NaOH溶液中加入EDTA作光亮剂抛光铝材,可获镜面光亮效果.其中直流抛光的工艺条件为:光亮剂25～40g/L、操作电压7 V、电流密度20 A/dm2、溶液温度45～50℃,抛光20 min后铝材表面反射率为90%,阳极溶解损耗0.018 2g/cm2;采用周期换向抛光时溶液温度可降低至40℃,阳极溶解损耗仅0.010 1g/cm2.两抛光新工艺在生产成本、操作环境和抛光效果等方面均优于传统碱性电化学抛光.

关键词: 电化学抛光 , 铝合金 , 工艺 , 光亮剂

铜在磷酸溶液中的电化学抛光研究

黎德育 , 夏国锋 , 郑振 , 王紫玉 , 田栋 , 王晨 , 翟文杰 , 李宁

表面技术

通过阳极极化和电化学阻抗谱测试,研究了铜在磷酸溶液中进行电化学抛光的电化学行为.研究发现:随着磷酸浓度的增加,铜在0.2,0.4,0.6,0.8V四个电位下电化学抛光后的粗糙度都呈现先减小、后增大的趋势,在磷酸质量分数为55％时达最低值；EIS图谱拟合的Rs值的变化反映了磷酸盐粘膜层电阻和铜表面氧化膜电阻的变化,此外,随着磷酸浓度的增加,EIS中第一个容抗半圆的弛豫时间延长,铜的溶解反应速度加快.

关键词: 铜 , 磷酸 , 电化学抛光 , 粗糙度 , 电化学阻抗谱

钛片电化学抛光工艺及耐蚀性研究

钱备 , 李淑英 , 范洪强 , 余相仁 , 张琳

电镀与涂饰

以含氯离子的乙二醇溶液为抛光液,研究了槽压、温度、时间对钛片表面电化学抛光效果的影响,得到电化学抛光的最佳工艺为:槽压30V,温度50℃,时间180 s.采用扫描电镜、Tafel极化曲线及表面粗糙度测试等方法,研究了电化学抛光后钛片的表面形貌、耐蚀性、粗糙度等性能,同时与传统的机械抛光及化学抛光方法进行了比较.结果表明,该工艺抛光效果优于传统抛光方法,经电化学抛光处理后的钛片,维钝电流密度和腐蚀电流密度均降至最低,耐蚀性能最优.

关键词: 钛片 , 电化学抛光 , 表面形貌 , 耐蚀性 , 粗糙度

柠檬酸-硫酸型不锈钢电化学抛光液研究

姚颖悟 , 王超 , 赵春梅 , 芦力君

电镀与涂饰

讨论了抛光液组分及工艺参数对不锈钢电化学抛光效果的影响,得出了最佳配方和工艺条件为:柠檬酸260g/L,硫酸120mL/L,甘油64mL/L,添加剂20mL/L,温度70 ℃,电流密度30 A/dm2,时间4～6 min.该抛光液环保,抛光效果好,还可提高不锈钢的耐蚀性能.

关键词: 不锈钢 , 电化学抛光 , 柠檬酸 , 硫酸 , 环保 , 耐蚀性

Ni-5％W合金基带的电化学抛光

朱海 , 吴向阳 , 彭东辉 , 韩婕 , 徐静安

电镀与精饰 doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2014.07.004

为改善Ni-5％W合金基带表面质量,以磷酸-硫酸和添加剂为电解液,采用均匀实验设计方法进行电解抛光,利用原子力显微镜对样品表面形貌进行表征,并用DPS(Data Process System)软件对抛光结果进行逐步回归优化.结果表明,在室温下,采用磷酸(85％)、硫酸(98％)和有机添加剂,以体积比为4:3:3的抛光液抛光效果较好,抛光后基带表面均方根粗糙度在25μm×25 μm范围内可降低到5 nm以下.

关键词: 涂层导体 , Ni-5％W合金基带 , 电化学抛光 , 均匀设计

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