刘智勇
,
杨润田
,
刘若涛
,
杨亚璋
兵器材料科学与工程
doi:10.3969/j.issn.1004-244X.2010.02.010
采用AlBi2+2%AlB10电弧靶与Ti靶中频磁控溅射共沉积的工艺,在高速钢基体上形成Ti-Al-B-N多元复合涂层.电子扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)分析结果表明:涂层由TiN的柱状结构转变为TiAlBN的多层混合结构,组织更为致密均匀;通过调节电弧电流,增加Al、B元素剂量,涂层晶面取向生长增多,并逐渐出现新相.涂层的显微硬度和耐磨性测试表明,随膜层中Al、B成分的增加,膜层维氏硬度增大,耐磨性能提高.
关键词:
电弧源
,
中频磁控溅射TiAlBN涂层
,
TiN涂层
,
共沉积
弥谦
,
王昆
,
刘哲
表面技术
采用直流磁过滤电弧源技术,在K9玻璃基底上制备氧化铝薄膜,研究了沉积时的氧气分量和阴极靶电流对薄膜折射率、沉积速率、消光系数和表面粗糙度的影响.结果表明:薄膜折射率、沉积速率和消光系数均随着氧气分量的增加而降低,随着阴极靶电流的升高而增加；薄膜表面粗糙度则随氧气分量或阴极靶电流的增加,呈先减小、后增大的趋势.分析认为,主要是因为随着氧气分量和阴极靶电流的变化,基底表面铝原子和氧气的比例发生了改变,进而影响到薄膜的相关性能.
关键词:
电弧源
,
磁过滤
,
氧化铝薄膜
,
氧气分量
,
阴极靶电流
