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CVD法在电致发光粉表面包覆SiO2膜

李志强 , 李娟 , 田少华 , 韦志仁

表面技术 doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2004.02.013

以硅酸乙酯和氧气作为前驱体,在500℃下, 采用流态化CVD法,对ZnS:Cu电致发光粉表面包覆SiO2薄膜,对膜层进行了SEM、EDX、AgNO 3抗腐蚀、发光亮度等测试.结果显示:发光粉颗粒表面明显存在一定量的SiO2.包覆的发光粉耐AgNO3腐蚀时间能达121h之久,样品的初始发光亮度均能达到未包覆样品的70%以上,包膜样品的发光光谱峰没有产生大的移动.

关键词: 电致发光粉 , SiO2 , 包膜 , CVD

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