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焦磷酸盐电镀Cu-Sn合金添加剂研究

黄新 , 余祖孝

腐蚀与防护

焦磷酸盐电镀Cu—sn合金是替代氰化物镀Cu-Sn合金的最重要电镀工艺,但是它的最大缺点是电沉积速度慢、镀层耐腐蚀性差。本工作采用电化学方法和失重腐蚀试验,研究了添加剂对焦磷酸盐电镀Cu-Sn合金的电沉积速度、失重腐蚀速度、腐蚀电流密度等的影响。结果表明,焦磷酸盐电镀Cu-Sn合金的最佳添加剂是光亮剂乙二胺(EDA,0.5g/L)、辅助光亮剂甲醛(HCHO,0.5g/L)与表面张力处理剂(SDBS,0.5g/L)三者的复合。

关键词: 电镀Cu-Sn合金镀层 , 焦磷酸盐镀液 , 添加剂 , 镀层性能

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