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Fe/Si多层膜亚层厚度比对β-FeSi2薄膜结构和表面形貌的影响

鲁林峰 , 沈鸿烈 , 张娟 , 江丰 , 李斌斌 , 沈洲 , 刘恋慈

人工晶体学报

采用射频磁控溅射方法,在Si(111)和石英衬底上制备了Fe/Si亚层厚度比不同的多层膜.多层膜的总厚度为252 nm,Fe/Si亚层厚度比分别为1 nm/3.2 nm、2 nm/6.4 nm和20 nm/64 nm.在850 ℃, Ar气气氛中退火2 h后,Si衬底上的多层膜完全生成了β-FeSi2相.但石英衬底上同样Fe/Si亚层厚度比的多层膜除了生成β-FeSi2相,还生成了少量的ε-FeSi相.通过增加Si亚层的厚度至Fe/Si亚层厚度比为2 nm/7.0 nm,在石英衬底上也获得了单相的β-FeSi2薄膜, 其光学带隙为0.87 eV,表面均方根粗糙度为2.34 nm.

关键词: β-FeSi2薄膜 , 石英衬底 , 亚层厚度比 , 多层膜

石英衬底上大晶粒多晶Si薄膜的制备与结构表征

马蕾 , 郭延岭 , 张志刚 , 江子荣 , 娄建忠 , 彭英才

人工晶体学报

利用高频感应加热化学气相沉积工艺,以H2稀释的SiH4作为反应气体源,在未抛光的粗糙石英衬底上直接沉积制备了具有均匀分布的大晶粒多晶Si膜.采用扫描电子显微镜、X射线衍射和可见-紫外分光光度计等检测手段,测量和分析了沉积膜层的表面形貌、晶粒尺寸、择优取向与光反射等特性.结果表明,多晶Si膜中Si晶粒的尺寸大小和密度分布不仅与工艺参数有关,而且强烈依赖于衬底的表面状况.1000℃下沉积薄膜的平均晶粒尺寸为~3μm,择优取向为<111>晶向.反射谱测量表明,920℃下制备薄膜的反射率比1000℃下制备的更低,最低值达18.4%,这应归功于前者具有更大的表面粗糙度.

关键词: 高频感应加热化学气相沉积 , 石英衬底 , 多晶Si膜 , 结构特性

离子束溅射沉积Fe/Si多层膜法合成β-FeSi2薄膜的研究

张娟 , 沈鸿烈 , 鲁林峰 , 唐正霞 , 江丰 , 李斌斌 , 刘恋慈 , 沈洲

功能材料

采用离子束溅射沉积Fe/Si多层膜的方法在石英衬底上制备了β-FeSi2薄膜,研究了不同厚度比的Fe/Si多层膜对β-FeSi2薄膜的结构性能、形貌及光学性能的影响.结果表明,厚度比为Fe(2nm)/Si(7.4nm)的多层膜在退火后完全生成了β-FeSi2相,表面致密均匀,其光学带隙为0.84eV,能量为1.0eV光子的吸收系数>105cm-1.

关键词: β-FeSi2 , 离子束溅射沉积 , Fe/Si多层膜 , 石英衬底

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