欢迎登录材料期刊网

材料期刊网

高级检索

  • 论文(3)
  • 图书()
  • 专利()
  • 新闻()

研磨液对440c不锈钢磁力研磨效果的影响

吴昊 , 张桂香

电镀与涂饰

分别以46#机械油和煤油对440c不锈钢表面进行磁力研磨。通过正交试验对研磨加工的工艺参数进行优化,从表面粗糙度、基体质量损耗、三维表面形貌等方面对比研究了上述2种研磨液对不锈钢表面光整效果的影响。结果表明,以机械油为研磨液时的光整效果更好,磁力研磨的最佳工艺条件为:主轴转速2500 r/min,加工间隙1.8 mm,进给速率60 mm/min,磨料填充量2.0 g。在最佳工艺条件下研磨后,工件的表面粗糙度由0.381μm降至0.032μm,大量毛刺和划痕得以去除,镜面效果良好。

关键词: 不锈钢 , 磁力研磨 , 研磨液 , 表面形貌 , 粗糙度

SiC单晶片化学机械研磨试验研究

王庆仓 , 张晓东 , 苏建修 , 祝伟彪 , 郗秦阳 , 朱鑫 , 裴圣华

表面技术 doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2015.04.025

目的:提高SiC单晶片的材料去除率,改善加工后的表面质量。方法进行研磨液试验,利用极差法得到研磨液的最优配比和研磨液成分中影响去除率的主次因素顺序;对主要影响因素进行单因素试验并考察对材料去除率的影响。结果研磨液的质量为50 g,最优配方为:助研剂、分散剂、增稠剂、润滑剂、磨料A、磨料B的质量分别为9,7,5,3,3,5 g,其余为调和剂,磨料A和磨料B的粒度均为W28。结论影响材料去除率的主要因素为磨料粒度,粒度越大,材料去除率越高。

关键词: 化学机械研磨 , 研磨液 , 碳化硅单晶片 , 材料去除率 , 表面质量

硅单晶片研磨液的研究

刘玉岭 , 檀柏梅 , 孙光英 , 蒋建国

稀有金属 doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2001.06.008

论述了研磨液在硅单晶片加工中所起的重要作用以及当今国内外研磨液的发展状况,通过实验研究有效地解决了目前研磨液存在的悬浮、金属离子的去除及表面颗粒吸附问题,并对研磨液的污染及其净化处理进行了分析.

关键词: 研磨液 , 悬浮 , 金属离子 , 颗粒吸附 , 表面活性剂

出版年份

刊物分类

相关作者

相关热词