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磁场强度对磁场-电沉积Ni-TiN镀层的影响

王金东 , 赵岩 , 朱砚葛 , 夏法锋 , 高媛媛 , 曹阳

兵器材料科学与工程

采用磁场-电沉积方法在40Cr表面制备Ni-TiN镀层,利用显微硬度计、扫描电镜、EDS能谱仪等仪器研究磁场强度对Ni-TiN镀层的显微硬度、表面形貌、TiN粒子复合量及镀液电流效率的影响.结果表明:当磁场强度为0.9T时,镀层显微硬度达到最大值,为730HV;TiN粒子复合量的质量分数达到最大值,为3.6%;电流效率达到最小值,为73%.SEM分析表明,当磁场强度为0.5 T时,Ni-TiN镀层的晶粒尺寸较大,表面较粗糙;当磁场强度为0.9 T时,镀层表面较平整,晶粒显著细化.

关键词: 磁场-电沉积 , 显微硬度 , 电流效率

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