André Anders
中国表面工程
doi:10.11933/j.issn.1007-9289.2016.01.001
文中提出一种扩展的薄膜微观结构的区域相图,可以用其来表征过滤阴极弧以及高功率脉冲磁控溅射镀膜过程中含有大量离子流的动态沉积过程.其坐标轴包括广义同系温度,标量化动能以及可以表征离子刻蚀作用的净膜厚.需要强调的是,由于影响薄膜生长的实际参数要远超相图中有限的坐标轴数,因此该结构区域相图展示的生长条件与薄膜结构之间的关系是近似和简化过的.
关键词:
结构区域相图
,
薄膜制备
,
等离子体辅助
,
离子刻蚀
,
应力
,
形貌
,
同系温度
,
位能与动能
孙静
,
康琳
,
刘希
,
赵少奇
,
吉争鸣
,
吴培亨
,
郝西萍
低温物理学报
doi:10.3969/j.issn.1000-3258.2006.03.005
在制备所有的NbN超导隧道结的过程中,为了得到良好的隧道结,刻蚀是很关键的一步,我们对反应离子刻蚀(RIE)和离子刻蚀两种不同的方法进行了研究比较.通过对多层结构用三种不同的方法刻蚀,再进行SEM观察切面图像,发现离子刻蚀出来的薄膜边缘,与离子源与基片摆放的方向有很大的关系,而RIE刻蚀的结区边缘较为平缓且结果稳定,有利于我们制备更好质量的超导隧道结.
关键词:
反应离子刻蚀RIE
,
离子刻蚀
,
SEM成像
