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用等离子体技术制备凹印版材耐磨层

张跃飞 , 张广秋 , 王正铎 , 葛袁静 , 陈强

材料保护 doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2005.04.017

用电镀法制备凹印版材存在环境污染严重、成本高等缺点,为此研究用等离子体表面镀膜层替代电镀法制备凹印版材的新工艺.利用等离子体磁控溅射、多弧离子镀和离子束辅助沉积技术在镍基表面制备了硬质铬薄膜.研究表明,本法制备的薄膜表面致密均匀,中间有过渡层的离子束辅助沉积层表面显微硬度为800~1100 HV,磁控溅射的为300~400 HV,多弧离子镀的为600~800 HV,多弧离子镀和离子束辅助沉积层表面显微硬度接近于电镀法(700~1 100 HV).划痕试验表明,制备的薄膜与基体结合力均在5 N左右,凹版电子束辅助沉积铬后表面光滑,网点线条清晰,粗细均匀,可替代电镀法凹印版材.

关键词: 凹印版材 , 制备 , 等离子体 , 磁控溅射 , 多弧离子镀 , 离子束辅助沉积 , 耐磨层

单源低能离子束辅助沉积类金刚石薄膜结构及性能研究

朱宏 , 柳襄怀 , 任琮欣 , 陈国梁 , 邹世昌

金属学报

用单源低能氩离子束辅助沉积(IBAD)法制备了非晶碳薄膜.氩离子能量为400-1500eV.膜面光滑致密,与衬底的结合力较高。用Raman,FTIR,HRTEM,TED,SEM,ERD及RBS研究了薄膜的形貌、结构和组分,测量了膜的电阻率、显微硬度及摩擦系数.薄膜为无定形的类金刚石(DLC).其中含氢约为205at.-%,碳原子与氢原子几乎没有形成C-H键.随着离子束能量及束流的增加,显微硬度、摩擦系数增加,电阻率减小.硬度增加是由于薄膜致密度的增加,而电阻率降低是由于膜中金刚石键(sp~3键)含量减少的缘故.

关键词: 离子束辅助沉积 , ion beam assisted deposition , structure , property

Ag、Ta元素对MOS2抗氧化性影响的研究

刘仲阳 , 王培录 , 廖小东 , 郑思孝 , 孙官清

机械工程材料 doi:10.3969/j.issn.1000-3738.2001.09.004

用离子束辅助沉积方法(IBAD)制备MoS2-Ag和MoS2-Ta复合膜以及MoS2膜.用XPS分别检测在相对湿度100%室温环境下存放45天和室温去离子水浸泡158h以及在430℃加热1h后的三种膜中Mo、S元素的电子结构.数据表明:掺有Ag、Ta元素的MoS2复合膜抗氧化特性远优于同种工艺条件下制备的纯MoS2膜.

关键词: 离子束辅助沉积 , MoS2-Ag复合膜 , MoS2-Ta复合膜 , 氧化

离子束流密度和基底温度对TiN纳米薄膜性能的影响

梁爱民 , 徐洮 , 王立平 , 林义民 , 孙蓉

材料科学与工程学报 doi:10.3969/j.issn.1673-2812.2005.04.016

采用低能离子束辅助沉积技术在Si片上制备了TiN纳米薄膜.考察了离子束流密度和基底温度对薄膜性能的影响.研究表明:随着离子束流密度的增大,TiN薄膜的纳米硬度上升,膜基结合力变化不大,薄膜的耐磨性获得了很大改善;制膜时的基底温度升高,薄膜的硬度也会上升,但膜基结合力下降,摩擦系数增大,薄膜的耐磨性下降.

关键词: TiN薄膜 , 离子束辅助沉积 , 结合强度 , 纳米硬度 , 摩擦学性能

离子束辅助沉积氧化镁薄膜

喻志农 , 吕晓军 , 郑德修

稀有金属材料与工程

为了获得等离子体显示器的介质保护膜,利用离子束辅助沉积技术制备了致密的MgO薄膜;通过X射线衍射仪、扫描电镜、光电子能谱分析了MgO薄膜的特性及特性和工艺参数之间的关系.结果表明:薄膜主要显示(200)晶面的择优取向;从断面形貌、密度及折射率来看,离子束辅助沉积制备的MgO薄膜比电子束蒸发制备的MgO薄膜更致密,薄膜和基底间的结合力更强:离子能量,基底温度,沉积速率及退火处理影响薄膜的结晶,离子能量为1keV时,薄膜结晶性最好,在离子能量固定为1keV时,基底温度或沉积速率降低都能提高薄膜的结晶度;空气中退火有助于薄膜的进一步生长.

关键词: MgO薄膜 , 离子束辅助沉积 , 结晶 , 薄膜特性

离子束辅助脉冲激光沉积硼碳氮薄膜

俞丹 , 卢意飞 , 戴祝萍 , 孙剑 , 吴嘉达

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2007.02.001

以烧结B4C为靶材料、在氮离子束辅助下用脉冲激光沉积方法制备了三元化合物硼碳氮(BCN)薄膜.用X光电子谱和傅立叶变换红外谱方法表征了制备的薄膜.结果表明,膜层中包含B-C、N-C、B-N键等复合结构,以B-C-N原子杂化的形式结合成键,而并非各种成分的简单混合.还探讨了成膜过程和相关机理,离子束中的活性氮有效地和脉冲激光对B4C靶烧蚀产生的硼和碳结合成键,氮离子束的辅助还能在一定程度上抑制氧杂质进入膜层,给衬底适当加温有利于提高氮的含量并影响薄膜的化学结构.

关键词: 硼碳氮薄膜 , 脉冲激光沉积 , 离子束辅助沉积 , Kauffman离子源

采用EB-PVD技术制备两种多分层热障涂层的研究

刘亮 , 张华芳 , 高巍 , 雷新更 , 崔向中 , 郑玉峰

材料导报

基于电子束物理气相沉积(EB-PVD)技术,设计并分别采用离子束辅助沉积法和低转速法制备了两种具有分层结构的热障涂层(TBCs),对陶瓷层引入层状结构后的组织结构与性能进行了研究.结果表明,层状结构的引入带来大量平行于沉积面的分层界面和相邻分层间的密度调制变化.层状结构TBCs的占优取向由(100)逐渐变化到(111),但仍都形成了不可转变的四方相(t(’))结构.依据分层结构本身的差异和分层界面所处位置的不同,低转速分层试样具有更好的抗氧化性能,但离子辅助分层试样具有明显更长的热循环寿命.

关键词: 热障涂层 , 离子束辅助沉积 , 多层 , 寿命

Ti6Al4V表面离子束辅助沉积DLC薄膜及其摩擦学性能研究

白秀琴 , 李健 , 严新平

材料保护 doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2004.z1.026

利用离子束辅助沉积(IBAD)的方法来制备含氢DLC薄膜,在球-盘微摩擦试验仪上对DLC薄膜及Ti6Al4V分别与超高分子量聚乙烯(UHMWPE)组成的摩擦副的摩擦学性能进行了研究.结果表明:在Ti6Al4V球表面用离子束辅助沉积技术可以沉积DLC薄膜,所制备的DLC薄膜能有效地减小摩擦系数,改善摩擦学性能,在干摩擦下DLC薄膜表现出一定的减摩作用,在生理盐水润滑的条件下,DLC薄膜具有优异的减摩作用.

关键词: Ti6Al4V , 离子束辅助沉积 , DLC薄膜 , 摩擦学性能

工艺参数对离子束辅助沉积TiN薄膜性能的影响

李国明 , 孙世尧 , 陈学群

表面技术 doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2008.06.022

为进一步提高牙科材料的生物相容性、耐磨性和耐腐蚀性能,将离子束辅助沉积制备TiN纳米薄膜技术引入到铁铬钼牙科材料的研究中,在Fe-Cr-Mo合金基体上制备了TiN薄膜.测定了表面膜层的显微硬度,在模拟口腔环境的溶液中,采用电化学方法,对经不同工艺参数沉积TiN薄膜的牙科用Fe-Cr-Mo合金的耐蚀性进行测试,并以未进行表面镀膜的Fe-Cr-Mo合金为对照.结果表明:经TiN镀膜处理的Fe-Cr-Mo软磁合金硬度明显增加,在口腔环境中的耐腐蚀性较未经表面镀膜处理的有明显提高.工艺参数不同,硬度增加的程度不同,耐蚀性差别也较大,当氮气流量为1.5mL/min,溅射时间为4h时,得到的膜厚为2μm,此时TiN膜硬度最高,在口腔溶液中耐腐蚀性最好.

关键词: 铁铬钼软磁合金 , 离子束辅助沉积 , 显微硬度 , 耐蚀性 , TiN薄膜

热障涂层制备技术研究进展

牟仁德 , 何利民 , 陆峰 , 陶春虎

机械工程材料 doi:10.3969/j.issn.1000-3738.2007.05.001

随着燃气涡轮发动机进口工作温度的提高,热障涂层技术受到了广泛的关注.综述了热障涂层研究及应用中的几种主要制备技术,包括等离子喷涂、电子束物理气相沉积、离子束辅助沉积、化学气相沉积等.介绍了上述几种制备技术的沉积原理,分析了各自的特点,并从涂层显微结构、涂层寿命、应用范围等方面进行了对比,认为离子束辅助沉积和化学气相沉积技术在未来高性能新型热障涂层制备中具有较大的发展潜力.

关键词: 热障涂层 , 等离子喷涂 , 离子束辅助沉积 , 化学气相沉积

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