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立方相WO3薄膜的制备及表征

李文章 , 李洁 , 王旋 , 肖娟 , 陈启元

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2010.01318

以偏钨酸铵(NH4)6W7O24·6H2O为钨源,聚乙二醇(PEG)为配位聚合物,采用聚合物前驱体法制备了立方晶相WO3(c-WO3)溥膜,利用X射线衍射、扫捕电镜、能谱分析及高分辨透射电镜等手段对结构进行了表征,并考察了煅烧温度、溶液pH值及镀膜衬底对WO3薄膜晶体结构与形貌的影响.结果表明,以FTO导电玻璃为衬底,450℃热处理3 h的样品为c-WO3,薄膜光滑平整,均匀良好,表面颗粒粒径为60nm,厚度为2.9μm,晶体生长有序度较高;热处理温度在400~550℃和不同pH值条件下制得的溥膜均为立方晶体结构;样品的颗粒粒径随前驱体溶胶pH值升高而减小;以石英玻璃和石墨衬底镀膜得到的样品均为单斜晶体结构,表明衬底对WO3薄膜晶体结构具有明显的影响.

关键词: 立方相WO3 , 纳米薄膜 , 聚合物前驱体法

立方相WO3薄膜的制备及表征

李文章 , 李洁 , 王旋 , 肖娟 , 陈启元

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2010.01318

以偏钨酸铵(NH4)6W7O24× 6H2O为钨源, 聚乙二醇(PEG)为配位聚合物, 采用聚合物前驱体法制备了立方晶相WO3 (c-WO3)薄膜, 利用X射线衍射、扫描电镜、能谱分析及高分辨透射电镜等手段对结构进行了表征, 并考察了煅烧温度、溶液pH值及镀膜衬底对WO3薄膜晶体结构与形貌的影响. 结果表明, 以FTO导电玻璃为衬底, 450℃热处理3 h的样品为c-WO3, 薄膜光滑平整, 均匀良好, 表面颗粒粒径为60 nm, 厚度为2.9 μm, 晶体生长有序度较高; 热处理温度在400~550℃和不同pH值条件下制得的薄膜均为立方晶体结构; 样品的颗粒粒径随前驱体溶胶pH值升高而减小; 以石英玻璃和石墨衬底镀膜得到的样品均为单斜晶体结构, 表明衬底对WO3薄膜晶体结构具有明显的影响.

关键词: 立方相WO3 , nano-structured film , polymeric precursor method

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